맞춤기술찾기

이전대상기술

나노사이즈의 게이트 오프닝 홀을 구비하는 세로형 유기트랜지스터 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015014877
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 블록공중합체의 자기조립 특성을 이용하여 게이트 전극의 오프닝 홀 사이즈를 현저하게 줄인 나노사이즈의 게이트 오프닝 홀을 구비하는 세로형 유기트랜지스터 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면 게이트 전극에 나노 사이즈의 오프닝 공간을 복수개형성할 수 있으므로 작은 전압을 인가하여도 효과적으로 전류의 흐름을 차단할 수 있다. 즉, 본 발명의 세로형 트랜지스터는 오프닝 사이즈가 30~40nm인 게이트 전극을 구비하므로 종래 공지된 유무기 트랜지스터에 비해 점멸비가 60~수백 배 이상 향상되었다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01) H01L 51/05 (2006.01)
CPC H01L 51/055(2013.01) H01L 51/055(2013.01) H01L 51/055(2013.01) H01L 51/055(2013.01)
출원번호/일자 1020130142569 (2013.11.22)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1503175-0000 (2015.03.10)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150318) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.11.22)
심사청구항수 15

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 오세용 대한민국 서울특별시 서초구
2 송효범 대한민국 경기도 안양시 동안구
3 이애나 대한민국 경상남도 거창군
4 노항덕 대한민국 경기도 화성시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이준혁 대한민국 경기도 수원시 팔달구 중부대로 *** B동 *층(우만동, 신아빌딩)(유니크국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-1062956-29
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2014-0341614-53
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.06.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2014-0058919-65
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0604061-08
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.11.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1055083-56
7 등록결정서
Decision to grant
2015.01.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0060189-62
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소스전극, 게이트 전극, 유기 활성층 및 드레인 전극을 포함하고, 소스 전극에서 드레인 전극으로 캐리어가 수직방향으로 이동하는 세로형 유기트랜지스터로서, 상기 게이트 전극은 소스 전극 위에 형성된 절연층 상에 위치하고, 상기 유기 활성층은 상기 게이트 전극 상에 위치하되, 상기 게이트 전극과 절연층에 캐리어가 이동 가능한 유기 활성 물질로 채워진 오프닝(opening) 홀이 형성된 것을 특징으로 하는 세로형 유기 트랜지스터
2 2
제 1항에 있어서, 상기 오프닝 홀은 직경이 200nm 미만인 것을 특징으로 하는 세로형 유기 트랜지스터
3 3
제 1항에 있어서, 상기 오프닝 홀은 로드 형상인 것을 특징으로 하는 세로형 유기 트랜지스터
4 4
제 1항에 있어서, 상기 오프닝 홀은 다수 개가 패턴화되어 게이트 전극과 절연층 내부를 관통하여 형성된 것을 특징으로 하는 세로형 유기 트랜지스터
5 5
제 4항에 있어서, 상기 오프닝 홀은 높이가 20~50nm인 것을 특징으로 하는 세로형 유기 트랜지스터
6 6
제 1항에 있어서, 상기 유기 활성층과 상기 드레인 전극 사이에 텅스텐 산화물층을 버퍼층으로 포함하는 것을 특징으로 하는 세로형 유기 트랜지스터
7 7
기판 상에 소스 전극 및 절연층을 순차로 형성하는 단계 ;상기 절연층 상에 블록공중합체층을 형성하는 단계 ;상기 블록공중합체층을 열처리하여 매트릭스를 형성하는 고분자와 로드(rod)를 형성하는 고분자로 자기 정렬시키는 단계 ;상기 매트릭스를 형성하는 고분자를 제거하는 단계 ;게이트 전극을 형성하는 단계 ;상기 로드를 형성하는 고분자 및 그 아래의 절연층을 제거하는 단계 ; 및유기활성층과 드레인 전극을 순차로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
8 8
제 7항에 있어서, 상기 유기활성층을 형성하는 단계는유기활성 물질이 상기 로드 및 절연층이 제거된 홀에 삽입되어 상기 게이트 전극에 캐리어가 이동 가능한 오프닝(opening) 홀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
9 9
제 7항에 있어서, 상기 방법은 블록공중합체층 형성 전에 폴리스티렌-폴리메틸메타크릴레이트 랜덤 공중합체[polystyrenerandom-poly(methylmethacrylate): PS-r-PMMA]인 유기단분자층을 코팅하는 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
10 10
제 7항에 있어서, 상기 유기 활성층과 상기 드레인 전극 사이에 텅스텐 산화물층을 버퍼층으로 형성하는 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
11 11
제 7항에 있어서, 상기 열처리에 의해 자기정렬된 상기 로드 형성 고분자는 직경이 200nm 미만인 고분자 기둥인 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
12 12
제 7항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스틸렌(polystyrene)과 폴리스틸렌 이 외의 고분자가 공유결합한 형태의 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
13 13
제 7항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스티렌-블록-폴리(메틸메타크릴레이트) [polystyrene-block-poly(methylmethacrylate): PS-b-PMMA], 폴리스티렌-블록-폴리(에틸렌 옥사이드) [polystyrene-block-poly(ethylene oxide): PS-b-PEO], 폴리스티렌-블록-폴리(비닐 피리딘) [polystyrene-block-poly(vinyl pyridine): PS-b-PVP], 폴리스티렌-블록-폴리(에틸렌-아트-프로필렌) [Polystyrene-block-poly(ethylene-alt-propylene): PS-b-PEP] 및 폴리스티렌-블록-폴리이소프렌[polystyrene-block-polyisoprene: PS-b-PI]로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
14 14
제 7항에 있어서, 상기 로드(rod) 형성 고분자는 폴리스티렌인 것을 특징으로 하는 세로형 트랜지스터 제조방법
15 15
제 12항에 있어서, 상기 블록공중합체는 폴리스티렌(polystyrene)과 폴리스틸렌 이 외의 고분자가 부피비로 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 서강대학교 산학협력단 에너지인력양성(에특) 고효율 에너지 나노소재공정 고급트랙
2 교육과학기술부 서강대학교 중견연구자지원 고전하 이동과 고내구성 특성의 신규 n형 헤테로 고리형 유도체 합성 및 이를 이용한 고성능 유기 트랜지스터 제작에 관한 연구