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이동하는 물질의 질량에 따라 공진 주파수가 변화하는 원리를 이용하여 목적물의 질량 및 특성을 측정할 수 있는 마이크로채널 공진기 제조방법에 있어서,실리콘기판을 제공하는 단계;상기 실리콘기판의 내부에 공동 채널(cavity channel)을 형성하는 단계;상기 공동 채널의 내부 벽면을 산화시켜 상기 공동 채널의 내부 벽면에 중공형 마이크로 채널구조체(micro channel structure)를 형성하는 단계; 및상기 마이크로 채널구조체가 상기 실리콘기판에 대해 공진 운동 가능하도록 상기 마이크로 채널구조체의 주변을 부분적으로 제거하는 단계;를 포함하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제1항에 있어서,상기 실리콘기판의 내부에 공동 채널(cavity channel)을 형성하는 단계는,상기 실리콘기판 상에 복수개의 트렌치(trench)를 형성하는 단계; 및상기 복수개의 트렌치를 이용하여 상기 실리콘기판의 내부에 상기 공동 채널을 형성할 수 있도록 상기 실리콘기판을 어닐링(annealing)하는 단계;를 포함하고,상기 실리콘기판의 어닐링시 서로 인접한 상기 트렌치가 서로 연결되며 상호 협조적으로 상기 공동 채널을 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제2항에 있어서,상기 트렌치를 형성하는 단계는,상기 실리콘기판 상에 제1포토레지스트 패턴을 패터닝하는 단계;상기 제1포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 실리콘기판의 표면을 제1에칭하는 단계; 및상기 제1포토레지스트 패턴을 제거하는 단계;를 포함하고,상기 트렌치는 상기 제1에칭시 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로 채널구조체의 주변을 부분적으로 제거하는 단계는,상기 실리콘기판의 상면에 제2포토레지스트 패턴을 패터닝하는 단계;상기 제2포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 실리콘기판에서 상기 마이크로 채널구조체의 주변을 부분적으로 제2에칭하는 단계; 및상기 제2포토레지스트 패턴을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로 채널구조체의 주변을 부분적으로 제거함에 따라, 상기 마이크로 채널구조체는 일단에 고정단을 가지며 타단에 자유단을 갖는 캔틸레버(cantilever) 구조로 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로 채널구조체의 주변을 부분적으로 제거함에 따라, 상기 마이크로 채널구조체는 양단에 고정단을 갖는 브릿지(bridge) 구조로 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제1항에 있어서,상기 공동 채널을 형성한 후 상기 실리콘기판의 상면에 폴리실리콘 박막층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제7항에 있어서,상기 폴리실리콘 박막층을 형성하는 단계는,상기 실리콘기판의 상면에 폴리실리콘층을 증착하는 단계; 및상기 폴리실리콘층의 상면 리세스가 제거되도록 상기 폴리실리콘층의 상면을 폴리싱하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제1항에 있어서,상기 실리콘기판에 글라스기판을 접합하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제9항에 있어서,상기 글라스기판을 접합하기 전에 상기 마이크로 채널구조체의 상면에 제1전극층을 형성하는 단계를 더 포함하고,상기 글라스기판에는 상기 제1전극층과 이격되게 제2전극층이 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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제10항에 있어서,상기 글라스기판은,상기 글라스기판의 표면에 제3포토레지스트 패턴을 패터닝하는 단계;상기 제3포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 글라스기판의 표면을 제3에칭하여 상기 글라스기판의 표면에 공진 공간을 형성하는 단계; 및상기 공진 공간 상에 상기 제2전극층을 형성하는 단계;를 포함하는 공정에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 공진기 제조방법
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