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진동선을 이용한 코팅과립 이송기술

  • 기술번호 : KST2015014937
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상온진공과립분사 공정을 위한 취성재료 과립 및 이를 이용한 코팅층의 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 0.1 내지 6 ㎛ 크기의 미립자 분말이 과립화되어 상온진공과립분사 공정을 통해 코팅층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 취성재료 과립 및 이를 이용한 코팅층의 형성방법을 제공한다. 본 발명에 따른 취성재료 과립은 상온진공과립분사 공정을 통해 과립을 공급하며 연속적으로 코팅공정을 수행할 수 있고, 노즐을 통해 분사되는 과립의 질량이 상대적으로 큼에 따라 높은 운동에너지를 나타내어 낮은 가스 유량에서도 코팅층을 제조할 수 있으며, 성막 속도를 증가시킬 수 있어 세라믹 코팅층 제조에 유용하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 코팅층 형성방법을 통해 10% 이하의 기공율을 나타내며, 균열이나 거대 기공 또는 층상구조와 같은 불균일성이 없는 균일한 미세구조를 가진 코팅층을 제조할 수 있다.
Int. CL C01B 25/32 (2006.01) C04B 35/49 (2006.01) C23C 24/00 (2006.01) C01G 25/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110130294 (2011.12.07)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1380836-0000 (2014.03.27)
공개번호/일자 10-2012-0100697 (2012.09.12) 문서열기
공고번호/일자 (20140409) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020110005094   |   2011.01.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.07)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박동수 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 김종우 대한민국 경상남도 창원시 가음
3 류정호 대한민국 경상남도 창원시
4 윤운하 대한민국 경상남도 창원시
5 최종진 대한민국 부산광역시 해운대구
6 한병동 대한민국 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0972130-86
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0497465-16
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.09.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0859452-78
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0859453-13
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0067820-48
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-0156489-46
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.02.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0156486-10
8 등록결정서
Decision to grant
2014.03.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0203368-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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7 7
제6항에 있어서, 상기 단계 1의 취성재료 과립은 0
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제7항에 있어서, 상기 단계 a의 결합제는 폴리비닐알콜(PVA), 폴리아크릴산(PAA), 2-옥탄올(2-octanol), 폴리비닐 부티랄(PVB) 및 폴리에텔렌글리콜(PEG)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 유기물인 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 단계 b의 과립화 후, 취성재료 과립에 존재하는 유기물을 제거하기 위하여 열처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 열처리는 200∼1500 ℃ 범위에서 1∼24시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
11 11
제6항에 있어서, 상기 단계 1의 취성재료 과립은 0
12 12
제11항에 있어서, 상기 단계 a의 고분자 물질은 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리이미드, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리테트라 플루오로에틸렌 및 전분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 고분자인 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
13 13
제6항에 있어서, 상기 코팅층 형성방법은 단계 1의 취성재료 과립을 5 내지 500 ㎛ 크기의 상태로 단계 3의 기재에 분사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
14 14
제6항에 있어서, 상기 단계 1의 취성재료 과립은 0
15 15
제6항에 있어서, 상기 단계 1의 취성재료 과립은 항생제를 포함하는 약물 또는 성장인자 단백질을 포함하는 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
16 16
제6항에 있어서, 상기 단계 3의 운반가스 유량은 노즐 슬릿(slit) 면적 1 ㎟ 당 0
17 17
제6항에 있어서, 상기 취성재료 코팅층의 형성방법은 취성재료 과립을 분사하기 전, 운반가스를 추가로 주입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
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19 19
제6항에 있어서, 상기 취성재료 코팅층은 기공율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 취성재료 코팅층의 형성방법
20 20
제6항에 있어서, 상기 취성재료 코팅층은 층상구조(lamella) 및 기공이 형성되지 않고, 균일한 미세구조를 가지는 것을 특징으로 취성재료 코팅층의 형성방법
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22 22
제6항에 있어서, 상기 단계 1의 취성재료 과립은 평균직경이 5~500 ㎛이고, 압축강도가 0
23 23
제6항에 있어서, 상기 단계 1의 취성재료 과립은 수산화인회석, 인산칼슘, 바이오 글래스, Pb(Zr,Ti)O3(PZT), 알루미나, 이산화티탄, 지르코니아(ZrO2), 이트리아(Y2O3), 이트리아-지르코니아(YSZ, Yttria stabilized Zirconia), 디스프로시아(Dy2O3), 가돌리니아(Gd2O3), 세리아(CeO2), 가돌리니아-세리아(GDC, Gadolinia doped Ceria), 마그네시아(MgO), 티탄산 바륨(BaTiO3), 니켈 망가네이트(NiMn2O4), 포타슘 소듐 니오베이트(KNaNbO3), 비스무스 포타슘 티타네이트(BiKTiO3), 비스무스 소듐 티타네이트(BiNaTiO3), CoFe2O4, NiFe2O4, BaFe2O4, NiZnFe2O4, ZnFe2O4, MnxCo3-xO4(여기서, x는 3 이하의 양의 실수), 비스무스 페라이트(BiFeO3), 비스무스 징크 니오베이트(Bi1
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25 25
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1 CN103501888 CN 중국 FAMILY
2 JP06101634 JP 일본 FAMILY
3 JP26511260 JP 일본 FAMILY
4 US20130295272 US 미국 FAMILY
5 WO2012099350 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
6 WO2012099350 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
7 WO2012099350 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 CN103501888 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103501888 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2014511260 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP6101634 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2013295272 US 미국 DOCDBFAMILY
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