| 1 |
1
주석 전구체와 안티몬 전구체를 용매에 용해시켜 ATO 용액을 제조하는 단계;기판 상에 상기 제조된 ATO 용액을 전기분무하여 ATO 박막을 형성하는 단계;상기 ATO 박막을 건조하는 단계;상기 건조된 ATO 박막을 200~800℃의 온도에서 소성하여 평균지름이 3 내지 20㎚인 다결정 ATO 나노입자로 구성되며 두께가 212 내지 240㎚인 ATO 박막을 제조하는 단계; 및상기 소성된 ATO 박막 상에 스핀코팅용 ATO 용액을 이용하여 스핀코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 주석 전구체는 tin(Ⅱ) chloride dihydrate(SnCl2·H2O), tin(Ⅳ) chloride pentahydrate(SnCl4·5H2O), tin(Ⅳ) acetate(Sn(CH3CO2)4), tin(Ⅱ) acetate(Sn(CH3CO2)2), tin(Ⅱ) sulfate(SnSO4) 및 tin(Ⅱ) sulfide(SnS) 중 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 안티몬 전구체는 antimony(Ⅲ) chloride(SbCl3), antimony(Ⅲ) acetate((CH3CO2)3Sb) 및 antimony(Ⅲ) ethoxide(Sb(OC2H5)3) 중 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 주석 전구체와 안티몬 전구체는 Sn:Sb가 10:1 내지 40:1의 몰비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 전기분무는 ATO 용액을 0
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 건조는 50~200℃의 오븐에서 수행되는 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 소성은 200~800℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 소성은 450~750℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 10 |
10
삭제
|
| 11 |
11
삭제
|
| 12 |
12
제1항에 있어서,상기 스핀코팅용 ATO 용액은 주석 전구체인 tin(Ⅱ) chloride dihydrate(SnCl2·H2O)와 안티몬 전구체antimony(Ⅲ) chloride(SbCl3)을 용매에 용해시켜 제조된 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 13 |
13
제1항에 있어서,상기 스핀코팅은 20~25℃에서 5~30초간 1,000~2,000rpm으로 수행되는 것을 특징으로 하는 용액 공정 기반 ATO 박막의 제조방법
|
| 14 |
14
제1항에 있어서,상기 스핀코팅된 ATO 박막은 평균지름 17~22㎚인 ATO 나노입자로 구성된 균일한 표면을 가지며, 두께가 334~345㎚이고, 평균 거칠기(Rave)가 0
|
| 15 |
15
제1항, 제3항 내지 제9항, 및 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되어 저항력이 2
|
