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액정표시소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015023216
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요약 본 발명은 마스크 수 및 공정 수를 줄임과 아울러 박막 트랜지스터의 동작 특성이 향상되도록 한 액정표시소자의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조방법은 기판 상에 금속층, 절연층, 비정질 실리콘층 및 인이 도핑된 n+ 비정질 실리콘층을 순차적으로 증착하여 적층하는 단계와; 상기 적층된 층들을 하나의 포토 레지스트 마스크 패턴을 이용하여 연속적으로 패터닝하여 액티브층, 게이트 절연층, 게이트 전극, 게이트 라인 및 게이트 패드를 동시에 형성하는 단계와; 상기 액티브층 및 상기 기판 상에 유기 물질로 이루어진 유기 절연층을 전면 형성하는 단계와; 상기 액티브층 상에 형성된 유기 절연층을 제거하는 단계와; 상기 유기 절연층 및 액티브층 상에 전극 물질을 전면 형성하는 단계와; 상기 전극 물질을 패터닝하여 소스 전극 및 드레인 전극을 형성함과 아울러 스토리지 커패시터의 전극 및 데이터 패드를 형성하는 단계와; 상기 소스 전극, 드레인 전극, 스토리지 전극, 그리고 데이터 패드가 형성된 상기 유기 절연층 상에 보호막을 전면 형성하는 단계와; 상기 보호막을 패터닝하여 상기 드레인 전극이 노출되게끔 콘택홀을 형성함과 아울러 상기 스토리지 커패시터의 전극이 노출되게끔 관통홀을 형성하고, 상기 게이트 패드 및 데이터 패드가 노출되게끔 패드 콘택홀들을 형성하는 단계와; 상기 보호막 상에 투명 전극 물질을 전면 형성하는 단계 및; 상기 투명 전극 물질을 패터닝하여 상기 콘택홀, 상기 관통홀 및 상기 패드 콘택홀 각각을 통해 투명 전극이 상기 드레인 전극과 상기 스토리지 커패시터의 전극에 접속되게 함과 아울러 상기 게이트 및 데이터 패드 각각에 접속되게 하는 단계를 포함하며; 상기 액티브층 상에 형성된 상기 유기 절연층을 제거하는 단계는 상기 기판의 배면에서 자외선을 조사하는 단계와; 상기 유기 절연층을 현상하여 상기 액티브층 상의 유기 절연층을 제거하는 단계 및; 상기 유기 절연층을 양생하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 게이트 전극 및 게이트 절연층 그리고 액티브층의 증착 및 패터닝 작업이 일괄적으로 동시에 행해짐으로써 마스크 수 및 공정 수가 종래에 비해 줄어들게 된다. 아울러 액티브층 상의 유기 절연층이 깨끗이 제거되게 됨으로써 박막 트랜지스터의 오믹 콘택트 특성 및 채널 특성이 향상되게 된다.
Int. CL G02F 1/136 (2006.01)
CPC G02F 1/136213(2013.01) G02F 1/136213(2013.01) G02F 1/136213(2013.01) G02F 1/136213(2013.01)
출원번호/일자 1019990048739 (1999.11.05)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0669093-0000 (2007.01.09)
공개번호/일자 10-2001-0045446 (2001.06.05) 문서열기
공고번호/일자 (20070116) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.11.02)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김웅권 대한민국 경기도군포시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, *층 (삼성동, 감령빌딩)(김영호국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1999.11.05 수리 (Accepted) 1-1-1999-0143243-07
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.05.17 수리 (Accepted) 4-1-2001-0059077-39
3 출원심사청구서
Request for Examination
2004.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2004-0507245-12
4 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.11.02 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2004-0507239-37
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.03.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.04.14 수리 (Accepted) 9-1-2006-0022643-16
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0228437-75
8 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2006.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2006-0450753-48
9 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2006.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2006-0527021-29
10 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.08.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2006-0605190-34
11 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.08.24 무효 (Invalidation) 1-1-2006-0605169-85
12 의견서
Written Opinion
2006.08.24 수리 (Accepted) 1-1-2006-0605220-16
13 보정요구서
Request for Amendment
2006.09.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2006-0120065-31
14 무효처분안내서
Notice for Disposition of Invalidation
2006.10.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2006-0133022-83
15 등록결정서
Decision to grant
2006.12.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0736357-47
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 금속층, 절연층, 비정질 실리콘층 및 인이 도핑된 n+ 비정질 실리콘층을 순차적으로 증착하여 적층하는 단계와;상기 적층된 층들을 하나의 포토 레지스트 마스크 패턴을 이용하여 연속적으로 패터닝하여 액티브층, 게이트 절연층, 게이트 전극, 게이트 라인 및 게이트 패드를 동시에 형성하는 단계와;상기 액티브층 및 상기 기판 상에 유기 물질로 이루어진 유기 절연층을 전면 형성하는 단계와;상기 액티브층 상에 형성된 유기 절연층을 제거하는 단계와;상기 유기 절연층 및 액티브층 상에 전극 물질을 전면 형성하는 단계와;상기 전극 물질을 패터닝하여 소스 전극 및 드레인 전극을 형성함과 아울러 스토리지 커패시터의 전극 및 데이터 패드를 형성하는 단계와;상기 소스 전극, 드레인 전극, 스토리지 전극, 그리고 데이터 패드가 형성된 상기 유기 절연층 상에 보호막을 전면 형성하는 단계와;상기 보호막을 패터닝하여 상기 드레인 전극이 노출되게끔 콘택홀을 형성함과 아울러 상기 스토리지 커패시터의 전극이 노출되게끔 관통홀을 형성하고, 상기 게이트 패드 및 데이터 패드가 노출되게끔 패드 콘택홀들을 형성하는 단계와;상기 보호막 상에 투명 전극 물질을 전면 형성하는 단계 및;상기 투명 전극 물질을 패터닝하여 상기 콘택홀, 상기 관통홀 및 상기 패드 콘택홀 각각을 통해 투명 전극이 상기 드레인 전극과 상기 스토리지 커패시터의 전극에 접속되게 함과 아울러 상기 게이트 및 데이터 패드 각각에 접속되게 하는 단계를 포함하며; 상기 액티브층 상에 형성된 상기 유기 절연층을 제거하는 단계는 상기 기판의 배면에서 자외선을 조사하는 단계와; 상기 유기 절연층을 현상하여 상기 액티브층 상의 유기 절연층을 제거하는 단계 및; 상기 유기 절연층을 양생하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 유기 절연층에 사용되는 유기 물질의 재료는 네가티브 감광성 수지인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 유기 절연층은 스핀 코팅법에 의해 표면이 평탄하게 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서,상기 적층된 층들을 하나의 포토 레지스트 마스크 패턴을 이용하여 연속적으로 패터닝하여 액티브층, 게이트 절연층, 게이트 전극, 게이트 라인 및 게이트 패드를 동시에 형성하는 단계에서 상기 스토리지 커패시터부와 상기 게이트 패드 및 데이터 패드부에 형성된 상기 마스크 패턴을 반노광시킴으로써 상기 스토리지 커패시터부와 상기 게이트 패드 및 데이터 패드부의 액티브층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
6 5
제 1 항에 있어서,상기 적층된 층들을 하나의 포토 레지스트 마스크 패턴을 이용하여 연속적으로 패터닝하여 액티브층, 게이트 절연층, 게이트 전극, 게이트 라인 및 게이트 패드를 동시에 형성하는 단계에서 상기 스토리지 커패시터부와 상기 게이트 패드 및 데이터 패드부에 형성된 상기 마스크 패턴을 반노광시킴으로써 상기 스토리지 커패시터부와 상기 게이트 패드 및 데이터 패드부의 액티브층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.