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정전기 방지구조를 갖는 마스크패턴

  • 기술번호 : KST2015023254
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요약 본 발명은 플로팅 마스크패턴(floating mask pattern)에 관한 것으로, 플로팅 마스크패턴 중 서로 근접하여 이격된 부분을 노광공정에서 패턴화 되지 않을 정도의 선폭을 갖는 라인으로 연결하여 제작함으로써, 상기 플로팅마스크 중 근접하여 이격된 부분에서 발생하는 정전기에 의한 마스크패턴의 손상을 막을 수 있으므로 공정지연을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL G02F 1/136 (2006.01)
CPC G03F 1/40(2013.01) G03F 1/40(2013.01) G03F 1/40(2013.01)
출원번호/일자 1019990046348 (1999.10.25)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0653974-0000 (2006.11.28)
공개번호/일자 10-2001-0038388 (2001.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (20061204) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.10.04)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류순성 대한민국 경상북도구미시황

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1999.10.25 수리 (Accepted) 1-1-1999-0135772-05
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.05.17 수리 (Accepted) 4-1-2001-0059077-39
3 출원심사청구서
Request for Examination
2004.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2004-0449194-21
4 대리인 변경 신고서
Agent change Notification
2004.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2004-0449121-10
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0228436-29
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2006.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2006-0450068-81
7 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items
2006.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0461673-41
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.07.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2006-0528130-76
9 의견서
Written Opinion
2006.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2006-0528131-11
10 등록결정서
Decision to grant
2006.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0704031-85
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
감광층 상부에 서로 이격되어 위치하고 노광과 현상에 의해 상기 감광층을 소정의 패턴으로 형성시키기 위한 마스크패턴으로서,서로 마주보는 방향으로 연장되어 형성된 다수의 돌출 패턴 중 돌출 단부가 가장 근접한 제1마스크패턴부 및 제2마스크패턴부와, 상기 제 1 마스크패턴부의 돌출 단부와 상기 제 2 마스크패턴부의 돌출 단부를 전기적으로 연결하는 연결라인을 포함하는 마스크패턴
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 연결라인의 선폭은 3㎛이하인 마스크패턴
3 2
제 1 항에 있어서, 상기 연결라인의 선폭은 3㎛이하인 마스크패턴
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.