1 |
1
주사선 및 신호선에 의하여 정의된 화소셀과, 상기 화소셀에 주사선 및 신호선에 전기적으로 연결되도록 형성되는 스위칭소자를 구비하는 기판을 마련하는 공정과, 상기 기판의 전면을 덮는 보호막을 형성하는 공정과, 상기 보호막에 상기 스위칭소자의 일 전극을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 공정과, 상기 노출된 스위칭소자의 일 전극에 연결되는 유기EL부의 애노드층을 형성하는 공정과, 상기 애노드층을 포함하는 기판의 노출된 전면에 유기EL부의 유기EL층을 형성하기 위한 유기층과 유기EL부의 캐쏘드층을 형성하기 위한 금속층을 연속적으로 형성하는 제 1 공정과, 상기 금속층과 상기 유기층을 레이저 노광에 의하여 선택적으로 제거하여 상기 캐쏘드층 및 유기EL층을 형성하는 제 2 공정을 포함하는 전기발광소자의 제조방법
|
2 |
2
청구항 1에 있어서, 상기 화소셀은 상기 기판에 제1, 제2 및 제3 형으로 구분되어 다수개로 정의되어 있어서, 상기 화소셀 각각에 스위칭소자, 애노드층을 형성하고, 상기 제 1 공정부터 제 2 공정을 진행하되, 상기 제 1 형 화소셀의 캐쏘드층 및 유기EL층을 먼저 형성한 후에 상기 제 1 공정부터 제 2 공정을 반복실시하여 상기 제 2 형 화소셀의 캐쏘드층 및 유기EL층과 상기 제 3 형 화소셀의 캐쏘드층 및 유기EL층을 순차적으로 형성하는 전기발광소자의 제조방법
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 캐쏘드층들을 공통으로 연결하도록 레이저 패터닝하는 전기발광소자의 제조방법
|
4 |
4
제2항에 있어서,상기 캐쏘드층들을 포함하는 기판의 노출된 전면을 덮는 공통전극을 형성하는 공정을 더 포함하는 전기발광소자의 제조방법
|
5 |
5
제3항 또는 제4항에 있어서,상기 기판의 노출되 전면에 커버층을 형성하는 공정을 더 포함하는 전기발광소자의 제조방법
|
6 |
6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속층 혹은, 유기층만을 제거할 수 있도록 레이저의 에너지 밀도를 조절하여 레이저 노광을 진행하는 전기발광소자의 제조방법
|
7 |
7
주사선 및 신호선에 의하여 정의된 화소셀과, 상기 화소셀에 주사선 및 신호선에 전기적으로 연결되도록 형성되는 스위칭소자를 구비하는 기판을 마련하는 공정과, 상기 기판의 전면을 덮는 보호막을 형성하는 공정과, 상기 보호막에 상기 스위칭소자의 일 전극을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 공정과,상기 노출된 스위칭소자의 일 전극에 연결되는 유기EL부의 애노드층을 형성하는 공정과,상기 애노드층을 포함하는 기판의 노출된 전면에 유기EL부의 유기EL층을 형성하기 위한 유기층을 형성하는 제 1 공정과,상기 유기층을 레이저 노광에 의하여 선택적으로 제거하여 상기 유기EL층을 형성하는 제 2 공정과, 상기 유기EL층 상에 유기EL부의 캐쏘드층을 형성하는 공정을 포함하는 전기발광소자의 제조방법
|
8 |
8
제7항에 있어서,상기 화소셀은 상기 기판에 제1, 제2 및 제3 형으로 구분되어 다수개로 정의되어 있어서, 상기 화소셀 각각에 스위칭소자, 애노드층을 형성하고, 상기 제 1 공정부터 제 2 공정을 진행하되, 상기 제 1 형 화소셀의 유기EL층을 먼저 형성한 후에 상기 제 1 공정부터 제 2 공정을 반복 실시하여 상기 제 2 형 화소셀의 유기EL층과 상기 제 3 형 화소셀의 유기EL층을 순차적으로 형성하고, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 유기EL층을 공통으로 덮도록 상기 캐쏘드층을 패터닝하는 전기발광소자의 제조방법
|
9 |
9
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 기판의 노출된 전면에 커버층을 형성하는 공정을 더 포함하는 전기발광소자의 제조방법
|
10 |
10
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 유기층만을 제거할 수 있도록 레이저의 에너지 밀도를 조절하여 레이저 노광을 진행하는 전기발광소자의 제조방법
|
11 |
10
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 유기층만을 제거할 수 있도록 레이저의 에너지 밀도를 조절하여 레이저 노광을 진행하는 전기발광소자의 제조방법
|