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투명기판과,상기 투명기판 상에 게이트라인과 연결되게 형성된 게이트전극과,상기 게이트전극 및 게이트라인을 모두 덮도록 상기 투명기판상에 형성된 게이트 절연막과,상기 게이트절연막 상에 상기 게이트라인과 수직되게 형성되어 화소영역을 형성하는 데이터라인과 연결되게 형성된 드레인전극과, 상기 게이트절연막 상에 상기 게이트전극을 사이에 두고 상기 드레인전극과 대응되게 형성된 소오스전극과, 상기 게이트절연막 상에 상기 게이트라인의 일부 영역과 중첩되게 형성되어 상기 게이트절연막 및 상기 게이트라인과 함께 축적 캐패시터를 구성하는 더미전극과,상기 데이터라인, 상기 소오스 및 드레인전극과 상기 더미전극을 덮도록 형성된 패시베이션층과,상기 패시베이션층에 상기 소오스전극과 상기 더미전극을 각각 노출시키도록 형성된 제 1 및 제 2 접촉홀과, 상기 패시베이션층 상에 상기 제 1 및 제 2 접촉홀을 통해 상기 소오스전극 및 상기 더미전극과 전기적으로 연결되게 형성된 화소전극과,상기 화소전극의 하부에 그의 가장자리 부분과 일부 영역이 중첩되도록 형성된 광흡수층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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청구항 1에 있어서,상기 광흡수층은 상기 화소전극이 단락에 의해 잔사되었을 경우 레이저 빔을 상기 광흡수층에 초점이 맺히도록 하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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청구항 1에 있어서, 상기 광흡수층은 상기 데이터라인, 상기 소오스 및 드레인전극과 상기 더미전극과 동일한 물질 및 동일한 공정에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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청구항 1에 있어서, 상기 광흡수층은 상기 소오스 및 상기 더미전극과 연결되게 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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청구항 1에 있어서, 상기 광흡수층은 상기 게이트라인 및 상기 게이트전극과 동일한 물질 및 동일한 공정에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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청구항 5에 있어서, 상기 광흡수층은 상기 게이트라인 및 상기 게이트전극과 분리되어 전기적으로 플로팅 상태가 되도록 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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투명기판 상에 게이트라인 및 데이터라인과, 그들에 접속된 박막트랜지스터와, 상기 게이트라인의 일부 영역과 중첩되는 축적 캐패시터를 형성함과 아울러 상기 게이트라인 및 데이터라인에 마련되는 화소영역의 가장자리 부분과 일부 영역이 중첩되는 광흡수층을 형성하는 공정과,상기 박막트랜지스터를 덮는 패시베이션층을 형성하고 상기 박막트랜지스터의 소오스전극과 상기 축적 캐패시터의 더미전극을 노출시키는 제 1 및 제 2 접촉홀을 형성하는 공정과,상기 패시베이션층 상에 상기 제 1 및 제 2 접촉홀을 통해 상기 소오스전극 및 상기 더미전극과 접촉되며 가장자리 부분이 상기 광흡수층과 중첩되는 화소전극을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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청구항 7에 있어서, 상기 광흡수층은 상기 데이터라인, 상기 박막트랜지스터의 소오스 및 드레인전극과 상기 더미전극과 동일한 물질로 동일층에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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청구항 8에 있어서, 상기 광흡수층을 상기 소오스 및 상기 더미전극과 연결되게 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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청구항 7에 있어서, 상기 광흡수층을 상기 게이트라인 및 상기 게이트전극과 동일한 물질로 동일층에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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청구항 10에 있어서, 상기 광흡수층을 상기 게이트라인 및 상기 게이트전극과 분리되어 전기적으로 플로팅 상태가 되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
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