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박막 패턴방법

  • 기술번호 : KST2015023437
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요약 가. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 분야 : 액정 표시장치용 포토레지스트 패턴방법. 나. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제 : 일반적으로 액정 표시장치용 어레이 기판을 제조하는 공정에서는 여러 번의 사진 식각공정을 거쳐야 하며, 상기 사진 식각공정에서 많은 불량이 발생하게 된다. 즉, 사진 식각공정에서 사용하는 포토레지스트의 도포공정에서 상기 포토레지스트의 두께 불균일에 따른 패턴불량이 가장 일반적인 불량을 일으키며, 본 발명에서는 상기와 같은 포토레지스트의 불균일한 두께에 따른 패턴불량을 개선하고자 한다. 다. 그 발명의 해결방법의 요지 : 본 발명에서는 포토레지스트의 두께 불균일에 따른 패턴불량을 개선하기 위해 서로 다른 종류의 포토레지스트를 다중으로 형성하는 방법을 제시한다. 여기서, 다른 종류의 포토레지스트는 포토스피드가 서로 다른 성질을 다중으로 증착하게 되는 것이다.
Int. CL G02F 1/1333 (2006.01)
CPC G02F 1/1362(2013.01) G02F 1/1362(2013.01) G02F 1/1362(2013.01) G02F 1/1362(2013.01)
출원번호/일자 1020000024940 (2000.05.10)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0626599-0000 (2006.09.14)
공개번호/일자 10-2001-0105485 (2001.11.29) 문서열기
공고번호/일자 (20060922) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.04.21)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 백명기 대한민국 서울특별시동작구
2 이현규 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2000.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2000-0093487-50
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.05.17 수리 (Accepted) 4-1-2001-0059077-39
3 출원심사청구서
Request for Examination
2005.04.21 수리 (Accepted) 1-1-2005-0206742-00
4 대리인변경신고서
Agent change Notification
2005.04.21 수리 (Accepted) 1-1-2005-0206741-54
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0334677-24
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.08.11 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2006-0576690-81
7 의견서
Written Opinion
2006.08.11 수리 (Accepted) 1-1-2006-0576691-26
8 등록결정서
Decision to grant
2006.09.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0533353-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판을 구비하는 단계와;상기 기판 상에 기능성 박막을 증착하는 단계와;상기 기능성 박막 상에 제 1 포토레지스트를 도포하는 단계와;상기 제 1 포토레지스트 상에 상기 제 1 포토레지스트보다 감광 민감성이 더 큰 제 2 포토레지스트를 도포하는 단계와;상기 제 1, 2 포토레지스트가 도포된 기판에 마스크를 사용하여 노광하는 단계와;상기 노광된 제 1, 2 포토레지스트를 현상하는 단계와;상기 현상된 제 1, 2 포토레지스트를 마스크로하여 상기 기능성 박막을 식각하는 단계를 포함하는 박막 패터닝방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 노광단계 전에 상기 제 2 포토레지스트 상에 상기 제 2 포토레지스트보다 감광 민감성이 더 큰 제 3 포토레지스트를 도포하는 단계를 더욱 포함하는 박막 패터닝방법
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 제 1, 2, 3 포토레지스트는 노광된 빛에 대해 양(+)의 성질을 갖는 박막 패터닝방법
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 기능성 박막의 식각은 건식식각인 박막 패터닝방법
5 5
청구항 4에 있어서, 상기 건식식각시 사용하는 식각가스는 F 계열의 가스와 Cl 계열의 가스 중 하나가 혼합된 가스인 박막 패터닝방법
6 5
청구항 4에 있어서, 상기 건식식각시 사용하는 식각가스는 F 계열의 가스와 Cl 계열의 가스 중 하나가 혼합된 가스인 박막 패터닝방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.