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기판이 기준위치로부터 상승위치로 이동되었을 때 상기 기판에 자외선을 조사하여 상기 기판상에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 자외선 세정장치에 있어서,로더부로부터 로봇에 의해 반송된 상기 기판이 안착되는 리프트 핀들과,상기 리프트 핀들이 상승위치로부터 기준위치로 이동될 때 상기 기판이 안착되는 회전핀들과,상기 회전핀들의 아래에 형성되어 상기 회전핀들을 회전시키기 위한 회전핀 구동부와,상기 회전핀들과 회전핀 구동부 사이에 설치되어 상기 회전핀들을 지지하기 위한 회전핀 지지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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제 1 항에 있어서, 상기 회전핀 구동부는 회전 에어 실린더로 구성되는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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제 1 항에 있어서,상기 회전핀들 및 상기 회전핀 구동부는 적어도 두 개 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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제 1 항에 있어서, 상기 리프트 핀들을 상승 및 하강시키기 위한 리프트 핀 구동부와, 상기 리프트 핀들이 상기 상승위치로 이동된 후 상기 기판에 자외선을 조사하여 상기 기판상에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 자외선 조사부와, 상기 리프트 핀들과 리프트 핀 구동부 사이에 설치되어 상기 리프트 핀들을 지지하기 위한 플레이트 부를 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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제 4 항에 있어서, 상기 플레이트 부는, 상기 회전핀 지지부재와 나란한 방향으로 설치되어 상기 리프트 핀들이 형성되는 베이스 플레이트와, 상기 리프트 핀 구동부 위에 설치되어 상기 리프트 핀 구동부의 구동력을 상기 리프트 핀들에 균일하게 전달하기 위한 구동 플레이트와, 상기 베이스 플레이트와 구동 플레이트의 사이에 설치되어 상기 베이스 플레이트와 구동 플레이트를 지지하기 위한 플레이트 지지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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제 5 항에 있어서,상기 리프트 핀들이 상기 상승위치로 이동될 때 상기 회전핀들은 상기 베이스 플레이트와 직교하는 방향으로 90° 회전하고,상기 리프트 핀들이 상기 기준위치로 이동될 때 상기 회전핀들은 상기 베이스 플레이트와 나란한 방향으로 90° 회전하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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제 5 항에 있어서,상기 회전핀들은 상기 베이스 플레이트 및 상기 회전핀 지지부재를 관통하여 상기 회전핀 구동부와 접속되는 것을 특징으로 하는 자외선 세정장치
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기판이 기준위치로부터 상승위치로 이동되었을 때 상기 기판에 자외선을 조사하여 상기 기판상에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 자외선 세정방법에 있어서,로더부로부터 반송된 상기 기판이 상기 리프트 핀들에 안착되는 단계와,상기 기판이 안착된 리프트 핀들이 상기 기준위치로부터 상기 상승위치로 이동되는 단계와,상기 리프트 핀들이 상기 상승위치로부터 상기 기준위치로 이동될 때 상기 기판을 회전핀들 위에 안착시키는 단계와,상기 리프트 핀들이 상승 및 기준 위치로 이동될 때 상기 기판의 이동로를 마련하도록 상기 회전핀들을 회전시키는 단계를 포함하는 자외선 세정방법
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제 8 항에 있어서,상기 리프트 핀들이 상기 상승위치로 이동할 때 상기 회전핀들을 90° 회전시키는 단계와,상기 리프트 핀들이 상기 기준위치로 이동할 때 상기 회전핀들을 원위치로 복귀시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정방법
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제 8 항에 있어서,상기 기판이 자외선 세정될 때 상기 로봇은 상기 로더부로부터 상기 기판을 반출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정방법
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제 8 항에 있어서,상기 기판이 자외선 세정될 때 상기 로봇은 상기 로더부로부터 상기 기판을 반출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 세정방법
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