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게이트전극과 드레인전극과 소스전극을 포함하는 스위칭소자와 캐패시터가 구성된 나노블럭를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법에 있어서,기판을 준비하는 단계와;상기 기판 상에 투명한 산화금속층을 증착하는 단계와;상기 산화금속층 상에 포토레지스트를 코팅하는 단계와;상기 포토레지스트가 코팅된 상기 기판 상에 포토마스크를 배치하고 노광하는 단계와;상기 포토마스크에 의해 노광되지 않은 상기 포토레지스트를 제거하는 단계와;상기 포토레지스트가 제거되고 노출된 상기 투명한 산화금속층을 식각하여 상기 기판을 노출하는 단계와;노광된 상기 포토레지스트를 제거하는 단계와;식각되지 않는 상기 산화금속층을 마스크로하여 상기 산화금속층과 접촉하는 부분이 돌출형상이 되도록 상기 기판의 측면을 과도하게 식각하여 식각홈을 형성하는 단계와;상기 식각홈에 상기 나노블록을 배치하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 투명한 산화 금속층은 인듐-틴-옥사이드, 인듐-징크-옥사이드, 산화알루미늄으로 구성된 산화금속 그룹 중 선택된 하나인 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 투명한 산화 금속층은 건식식각에 의해 식각되는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 1 항에 있어서,식각되지 않는 상기 산화금속층을 마스크로하여 상기 산화금속층과 접촉하는 부분이 돌출형상이 되도록 상기 기판의 측면을 과도하게 식각하여 식각홈을 형성하는 단계에서, 상기 기판의 일부는 습식식각에 의해 식각되는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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게이트전극과 드레인전극과 소스전극을 포함하는 스위칭소자와 캐패시터가 구성된 나노블럭을 포함하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법에 있어서,기판을 준비하는 단계와;상기 기판 상에 빛에 감광되는 투명한 산화 금속층을 증착하는 단계와;상기 투명한 산화 금속층 상에 포토마스크를 배치하고 노광하는 단계와;노광된 상기 산화 금속층을 식각하여 상기 기판을 노출하는 단계와;식각되지 않은 상기 산화 금속층을 마스크로하여 상기 산화 금속층과 접촉하는 부분이 돌출형상이 되도록 상기 기판의 측면을 과도하게 식각하여 식각홈을 형성하는 단계와;상기 식각홈에 상기 나노블록을 배치하는 단계;를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 투명한 산화 금속층은 솔벤트 및 빛에 반응하는 물질이 혼합되어 만들어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 투명한 산화 금속층은 건식식각에 의해 식각되는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 5 항에 있어서,식각되지 않은 상기 산화 금속층을 마스크로하여 상기 산화 금속층과 접촉하는 부분이 돌출형상이 되도록 상기 기판의 측면을 과도하게 식각하여 식각홈을 형성하는 단계에서, 상기 기판의 일부는 습식식각에 의해 식각되는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 5 항에 있어서,식각되지 않은 상기 산화 금속층을 마스크로하여 상기 산화 금속층과 접촉하는 부분이 돌출형상이 되도록 상기 기판의 측면을 과도하게 식각하여 식각홈을 형성하는 단계에서, 상기 기판의 일부는 습식식각에 의해 식각되는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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