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게이트금속층 상의 화소전극재료를 에칭함으로써 화소전극패턴이 형성된 액정표시소자에 있어서,상기 화소전극은 옥살릭계산을 포함한 약산의 에천트로 에칭되는 비정질 구조의 투명 전도성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료
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제 1 항에 있어서, 상기 비정질 구조의 투명 전도성 재료는 인듐징크옥사이드(Indium Zinc Oxide), 인듐틴징크옥사이드(Indium Tin Zinc Oxide), 비정질 인듐틴옥사이드(Amorpous Indium Tin Oxide) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료
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제 2 항에 있어서,상기 에천트는 (COOH)2를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료
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게이트금속층의 화소전극재료를 에칭함으로써 화소전극패턴을 형성하는 액정표시소자의 제조방법에 있어서,비정질 구조의 투명 전도성 재료를 상기 게이트금속층 상에 형성하는 단계와,상기 비정질 구조의 투명 전도성 재료층을 옥살릭계산을 포함한 약산의 에천트로 에칭하여 화소전극패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료 에칭방법
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제 5 항에 있어서,상기 투명 전도성 재료는 인듐징크옥사이드(Indium Zinc Oxide), 인듐틴징크옥사이드(Indium Tin Zinc Oxide), 비정질 인듐틴옥사이드(Amorpous Indium Tin Oxide) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료 에칭방법
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제 6 항에 있어서,상기 에천트는 (COOH)2를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료 에칭방법
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제 6 항에 있어서,상기 에천트는 (COOH)2를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극재료 에칭방법
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