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액정표시장치의 제조방법

기술번호 : KST2015024032
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 반도체층 형성시 화학 증폭형 네거티브(Negative) 포토마스크를 이용한 노광공정을 함으로써 화소 전극과 중첩되는 반도체층에 의한 화소전극의 전기적 간섭현상을 방지하기 위한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 데이터라인 영역에 해당하는 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 투명기판 상에 게이트절연막을 전면 형성시키는 단계와, 상기 게이트절연막 상에 반도체층을 전면 형성시키는 단계와, 상기 반도체층 상에 PAG(Photo Acid Generator) 및 가교제를 포함하는 네거티브 포토레지스트 전면 형성하는 단계와, 상기 네거티브 포토레지스트 상에 마스크 패턴을 정렬하는 단계와, 상기 마스크 패턴을 통하여 상기 네거티브 포토레지스트를 노광하는 단계와, 상기 노광된 네거티브 포토레지스트를 소정 온도로 열처리하는 단계와, 상기 반도체층 상의 이물질 및 상기 네거티브 포토레지스트를 현상액으로 제거하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 반도체층을 패터닝하여 상기 이물질과 중첩된 반도체층이 단선되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 노광 공정에서 발생한 이물질에 의한 패턴 불량을 방지함으로써 화소전극과 반도체층간의 간섭으로 인한 공정 결함의 발생을 방지할 수 있으며, 수율이 향상될 수 있다.
Int. CL	G02F 1/136 (2000.01)
CPC	G02F 1/13439(2013.01) G02F 1/13439(2013.01) G02F 1/13439(2013.01) G02F 1/13439(2013.01)
출원번호/일자	1020000085279 (2000.12.29)
출원인	엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자	10-0794470-0000 (2008.01.07)
공개번호/일자	10-2002-0055999 (2002.07.10) 문서열기
공고번호/일자	(20080117) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항	심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2005.12.20)
심사청구항수	8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사	대한민국	서울특별시 영등포구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	박덕진	대한민국	대구광역시북구
2	김성희	대한민국	경상북도칠곡군

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	허용록	대한민국	서울특별시 강남구 역삼로 **, 층 (역삼동, 현죽빌딩)(선영특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사	대한민국	서울특별시 영등포구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2000.12.29	수리 (Accepted)	1-1-2000-0285355-35
2	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2001.05.17	수리 (Accepted)	4-1-2001-0059077-39
3	출원심사청구서 Request for Examination	2005.12.20	수리 (Accepted)	1-1-2005-0746058-09
4	명세서등보정서 Amendment to Description, etc.	2005.12.20	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2005-0746055-62
5	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2006.12.27	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2007.01.12	수리 (Accepted)	9-1-2007-0001541-55
7	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2007.05.28	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0286399-11
8	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2007.07.30	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2007-0554840-63
9	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2007.07.30	수리 (Accepted)	1-1-2007-0554847-82
10	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)	2007.09.14	수리 (Accepted)	1-1-2007-0669056-47
11	거절결정서 Decision to Refuse a Patent	2007.10.24	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0567632-13
12	명세서 등 보정서(심사전치) Amendment to Description, etc(Reexamination)	2007.11.21	보정승인 (Acceptance of amendment)	7-1-2007-0046751-66
13	등록결정서 Decision to grant	2007.12.31	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0706303-80
14	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2008.04.18	수리 (Accepted)	4-1-2008-5061241-15
15	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.12.21	수리 (Accepted)	4-1-2010-5241074-12
16	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2011.10.04	수리 (Accepted)	4-1-2011-5199065-15
17	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2011.12.29	수리 (Accepted)	4-1-2011-5262372-95

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 투명기판 상에 게이트절연막을 전면 형성시키는 단계와, 상기 게이트절연막 상에 이물질을 포함하는 반도체층을 전면 형성시키는 단계와,상기 반도체층 상에 PAG(Photo Acid Generator) 및 가교제를 포함하는 네거티브 포토레지스트를 전면 형성하여 마스크 패턴을 이용하여 상기 이물질 상에 형성된 네거티브 포토레지스트를 노광하는 단계와,상기 네거티브 포토레지스트가 형성된 투명기판을 열처리하는 단계와,상기 반도체층 상의 이물질 및 상기 이물질 상의 노광된 네거티브 포토레지스트와, 상기 노광 공정에서 노광되지 않은 네거티브 포토레지스트가 현상액에 의해 제거되는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와,상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 반도체층을 패터닝하여 상기 이물질과 중첩된 반도체층이 단선되는 단계를 포함하고,상기 노광 단계과 열처리 단계에서는 이물질 상에 형성된 네거티브 포토레지스트가 노광에 의해 충분한 에너지를 받지 못하고, 이로 인해 열처리 단계에서 상기 네거티브 포토레지스트에 포함된 PAG와 가교제가 반응하지 않는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
2	2 제 1 항에 있어서, 상기 노광된 네거티브 포토레지스트의 열처리는 100도에서 150도 사이의 온도로 가열하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
3	3 제 1 항에 있어서, 상기 현상액은 2
4	4 제 1 항에 있어서,상기 투명기판과 게이트절연막 사이에 게이트라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
5	5 제 1 항에 있어서,상기 반도체층 상에 데이터라인을 전면 형성하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
6	6 제 5 항에 있어서,상기 데이터라인 상에 보호층을 전면 형성하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
7	7 제 6 항에 있어서,상기 데이터라인이 노출되도록 보호층 상에 콘택홀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
8	8 제 7 항에 있어서,상기 콘택홀을 경유하여 상기 데이터라인과 접촉하도록 상기 보호층 상에 형성되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법
9	8 제 7 항에 있어서,상기 콘택홀을 경유하여 상기 데이터라인과 접촉하도록 상기 보호층 상에 형성되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-0794470-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20001229 출원 번호 : 1020000085279 공고 연월일 : 20080117 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20071231 청구범위의 항수 : 8 유별 : G02F 1/136 발명의 명칭 : 액정표시장치의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20180108

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	513,000 원	2008년 01월 07일	납입
제 4 년분	금 액	216,000 원	2010년 12월 28일	납입
제 5 년분	금 액	216,000 원	2011년 12월 21일	납입
제 6 년분	금 액	216,000 원	2012년 12월 28일	납입
제 7 년분	금 액	404,000 원	2013년 12월 27일	납입
제 8 년분	금 액	404,000 원	2014년 12월 30일	납입
제 9 년분	금 액	404,000 원	2015년 12월 28일	납입
제 10 년분	금 액	680,000 원	2016년 12월 14일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2000.12.29	수리 (Accepted)	1-1-2000-0285355-35
2	출원인정보변경(경정)신고서	2001.05.17	수리 (Accepted)	4-1-2001-0059077-39
3	출원심사청구서	2005.12.20	수리 (Accepted)	1-1-2005-0746058-09
4	명세서등보정서	2005.12.20	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2005-0746055-62
5	선행기술조사의뢰서	2006.12.27	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	선행기술조사보고서	2007.01.12	수리 (Accepted)	9-1-2007-0001541-55
7	의견제출통지서	2007.05.28	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0286399-11
8	[명세서등 보정]보정서	2007.07.30	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2007-0554840-63
9	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2007.07.30	수리 (Accepted)	1-1-2007-0554847-82
10	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서	2007.09.14	수리 (Accepted)	1-1-2007-0669056-47
11	거절결정서	2007.10.24	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0567632-13
12	명세서 등 보정서(심사전치)	2007.11.21	보정승인 (Acceptance of amendment)	7-1-2007-0046751-66
13	등록결정서	2007.12.31	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2007-0706303-80
14	출원인정보변경(경정)신고서	2008.04.18	수리 (Accepted)	4-1-2008-5061241-15
15	출원인정보변경(경정)신고서	2010.12.21	수리 (Accepted)	4-1-2010-5241074-12
16	출원인정보변경(경정)신고서	2011.10.04	수리 (Accepted)	4-1-2011-5199065-15
17	출원인정보변경(경정)신고서	2011.12.29	수리 (Accepted)	4-1-2011-5262372-95


기술번호	KST2015024032
자료제공기관	NTB
기술공급기관	LG그룹
기술명	액정표시장치의 제조방법
기술개요	본 발명은 반도체층 형성시 화학 증폭형 네거티브(Negative) 포토마스크를 이용한 노광공정을 함으로써 화소 전극과 중첩되는 반도체층에 의한 화소전극의 전기적 간섭현상을 방지하기 위한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 데이터라인 영역에 해당하는 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 투명기판 상에 게이트절연막을 전면 형성시키는 단계와, 상기 게이트절연막 상에 반도체층을 전면 형성시키는 단계와, 상기 반도체층 상에 PAG(Photo Acid Generator) 및 가교제를 포함하는 네거티브 포토레지스트 전면 형성하는 단계와, 상기 네거티브 포토레지스트 상에 마스크 패턴을 정렬하는 단계와, 상기 마스크 패턴을 통하여 상기 네거티브 포토레지스트를 노광하는 단계와, 상기 노광된 네거티브 포토레지스트를 소정 온도로 열처리하는 단계와, 상기 반도체층 상의 이물질 및 상기 네거티브 포토레지스트를 현상액으로 제거하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 반도체층을 패터닝하여 상기 이물질과 중첩된 반도체층이 단선되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 노광 공정에서 발생한 이물질에 의한 패턴 불량을 방지함으로써 화소전극과 반도체층간의 간섭으로 인한 공정 결함의 발생을 방지할 수 있으며, 수율이 향상될 수 있다.
개발상태
기술의 우수성
응용분야
시장규모 및 동향
희망거래유형
사업화적용실적
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번호	심판번호(숫자)	심판번호(문자)	사건의표시	청구일	심결일자
1	2007101011888	2007원11888	2000년 특허출원 제0085279호 거절결정불복심판	2007.11.21	2007.12.31

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