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기판;상기 기판 위에 형성된 다수의 게이트 배선과 상기 게이트 배선에 연결되어 있는 게이트 전극, 상기 게이트 배선의 일 끝단에 위치하는 게이트 패드 및 상기 게이트 배선과 상기 게이트 패드를 연결하는 게이트 링크부;상기 게이트 배선과 상기 게이트 전극, 상기 게이트 패드 및 상기 게이트 링크부 상에 형성되는 게이트 절연막;상기 게이트 전극과 대응되는 상기 게이트 절연막 상부에 형성되어 있는 반도체층 및 상기 반도체층 상의 오믹 콘택층;상기 오믹 콘택층 상부에 형성되어 있고, 상기 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의하는 데이터 배선, 상기 데이터 배선에서 연장된 소스 전극 및 상기 소스 전극 맞은편에 위치하는 드레인 전극, 상기 데이터 배선의 일끝단에 위치하는 데이터 패드;상기 데이터 배선과 상기 소스 및 드레인 전극 상부에 형성되어 있고, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 가지는 보호층;상기 화소 영역에 형성되어 있으며, 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결되어 있는 화소 전극;상기 게이트 링크부와 대응되는 상기 게이트 절연막 상에 형성되는 보호 패턴;을 포함하는 액정 표시 장치용 어레이 기판
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제 1 항에 있어서,상기 보호 패턴은 상기 화소 전극과 동일한 투명 도전 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판
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제 1 항에 있어서,상기 보호 패턴은 상기 반도체층과 상기 보호층을 형성하는 절연막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판
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기판을 구비하는 단계;상기 기판 위에 다수의 게이트 배선과 상기 게이트 배선에 연결되어 있는 게이트 전극, 상기 게이트 배선의 일 끝단에 위치하는 게이트 패드 및 상기 게이트 배선과 상기 게이트 패드를 연결하는 게이트 링크부를 형성하는 단계;상기 게이트 배선을 포함한 상기 기판 상에 게이트 절연막, 비정질 실리콘층, 불순물 비정질 실리콘층 및 금속층을 순차적으로 증착하는 단계;상기 금속층과 상기 불순물 비정질 실리콘을 패터닝하여 상기 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의하는 데이터 배선, 상기 데이터 배선에서 연장된 소스 전극 및 상기 소스 전극 맞은편에 위치하는 드레인 전극, 상기 데이터 배선의 일 끝단에 위치하는 데이터 패드 및 오믹 콘택층을 형성하는 단계;상기 데이터 배선을 포함한 상기 기판 상에 절연 물질을 증착하고, 상기 절연 물질과 상기 반도체층을 패터닝하여 보호층 및 액티브층을 형성하는 단계;상기 화소 영역 상에 상기 콘택홀을 통하여 상기 드레인 전극과 연결되는 화소 전극과, 상기 게이트 링크부와 대응되는 상기 게이트 절연막 상에 보호 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 보호 패턴은 상기 화소 전극과 투명 도전 물질로 동일한 공정에서 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 보호 패턴은 상기 반도체층과 상기 보호층을 형성하는 절연막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이기판의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 보호 패턴은 상기 반도체층과 상기 보호층을 형성하는 절연막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이기판의 제조 방법
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