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스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2015024202
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 로드 애노드에 성막된 타겟 물질이 쉽게 떨어져 나가지 않도록 하여 로드 애노드에 성막된 타겟 물질에 의해 박막의 균일도가 감소되는 것을 방지함으로써, 기판 상에 형성된 박막의 균일도를 향상시키고, 그로 인한 제품의 수율 및 신뢰성을 향상시키는데 적당한 스퍼터링 장치를 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 스퍼터링 장치는 진공 챔버와, 상기 진공 챔버 내에 배치되며 성막하고자 하는 물질로 이루어진 타겟과, 상기 타겟과 소정 간격을 두고 배치되며 거친 표면을 갖는 로드 애노드들과, 상기 로드 애노드와 소정 간격을 두고 배치되어 상기 타겟에서 이탈된 물질이 균일하게 성막되는 기판을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 타겟, 로드 애노드(Rod Anode)
Int. CL H01L 21/203 (2006.01)
CPC H01J 37/3447(2013.01) H01J 37/3447(2013.01) H01J 37/3447(2013.01)
출원번호/일자 1020010011490 (2001.03.06)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0672629-0000 (2007.01.16)
공개번호/일자 10-2002-0071362 (2002.09.12) 문서열기
공고번호/일자 (20070123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.02.16)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임태현 대한민국 경상북도칠곡군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 심창섭 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 **, 현대빌딩 *층 (잠실동)(KBK특허법률사무소)
2 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2001-0048890-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.05.17 수리 (Accepted) 4-1-2001-0059077-39
3 출원심사청구서
Request for Examination
2006.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2006-0114682-13
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.02.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2006-0114681-67
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.11.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.12.05 수리 (Accepted) 9-1-2006-0080705-97
7 등록결정서
Decision to grant
2006.12.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0746616-57
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
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번호 청구항
1 1
진공 챔버;상기 진공 챔버 내에 배치되며 성막하고자 하는 물질로 이루어진 타겟;상기 타겟과 소정 간격을 두고 배치되며 거친 표면을 갖는 로드 애노드들;상기 로드 애노드와 소정 간격을 두고 배치되어 상기 타겟에서 이탈된 물질이 균일하게 성막되는 기판을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 로드 애노드의 표면은 연속 또는 불연속적인 요철을 갖는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 로드 애노드는 상기 타겟의 주위를 따라 형성된 그라운드 실드(Ground shied)에 의해 고정되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 일측이 축으로 고정되어 상승 및 하강이 가능한 기판 지지대를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
5 5
제 2 항에 있어서, 상기 요철은 첨상 또는 마름모 형상인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
6 5
제 2 항에 있어서, 상기 요철은 첨상 또는 마름모 형상인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.