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건식식각 장치

  • 기술번호 : KST2015024234
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요약 본 발명은 건식식각 장치에 관한 것으로서, 일반적인 건식장치는 하부 전극 하부에 냉각라인이 설치되어 있어, 플라즈마에 의해 하부 전극의 온도가 올라가는 것을 방지한다. 그러나, 냉각라인이 위치한 곳과 그렇지 않은 곳에서 온도 차이가 발생하고, 액체 냉각제를 이용하여 신속하게 온도를 감소시킬 수 없어 박막의 식각시 얼룩이 나타난다. 본 발명에서는 하부 전극 내부에 냉각부를 형성하는데, 냉각부가 하부 전극의 전면에 대응하도록 하고, 기체로 이루어진 냉각제를 사용함으로써 하부 전극의 온도를 균일하게 할 수 있다. 이에 따라, 하부 전극 상부의 식각되는 반응물의 온도도 균일하게 되므로, 얼룩을 방지하고, 생산성을 향상시킬 수 있다. 건식식각, 냉각, 기체 냉각제
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01)
CPC H01J 37/32724(2013.01) H01J 37/32724(2013.01) H01J 37/32724(2013.01)
출원번호/일자 1020010003290 (2001.01.19)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0688229-0000 (2007.02.22)
공개번호/일자 10-2002-0062065 (2002.07.25) 문서열기
공고번호/일자 (20070228) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.01.12)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신상윤 대한민국 경상북도구미시임

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2001-0014248-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.05.17 수리 (Accepted) 4-1-2001-0059077-39
3 대리인변경신고서
Agent change Notification
2006.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2006-0022908-56
4 출원심사청구서
Request for Examination
2006.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2006-0022907-11
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.12.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.01.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0001518-15
7 등록결정서
Decision to grant
2007.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0099102-37
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
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번호 청구항
1 1
챔버와; 상기 챔버 내부에 위치하는 상부 전극과; 상기 상부 전극과 이격되어 위치하며 처리되는 대상물이 안치되고, 전극 내부에 냉각제로 채워진 냉각부를 가지며 상기 냉각부가 상기 전극 전면에 대응하는 하부 전극과; 상기 상부전극과 하부전극 사이에서 플라즈마 상태를 이루는 가스를 상기 챔버 내부로 유입하는 가스유입부와; 상기 챔버 내부의 공기를 배출시키기 위한 배기부와; 상기 상부 전극 및 하부 전극과 연결되어 있는 전력 공급부와; 상기 냉각부와 연결되어 상기 냉각제의 온도를 제어하는 온도 조절부 를 포함하는 건식식각 장치
2 2
제 1 항에서, 상기 냉각제는 헬륨과 질소 중의 어느 하나로 이루어진 건식식각 장치
3 3
제 1 항에서, 상기 냉각부의 표면은 굴곡을 가지는 건식식각 장치
4 4
제 1 항에서, 상기 반응 챔버의 상면과 하면 및 측면에 각각 위치하고, 내부에 비활성 기체로 이루어진 냉각제를 포함하는 제 1 내지 제 3 냉각부와, 상기 냉각제의 온도를 제어하는 온도조절 장치를 더 포함하는 건식식각 장치
5 5
제 4 항에서, 상기 냉각제는 헬륨과 질소 중의 어느 하나로 이루어진 건식식각 장치
6 5
제 4 항에서, 상기 냉각제는 헬륨과 질소 중의 어느 하나로 이루어진 건식식각 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.