요약 | 본 발명은 건식식각 장치에 관한 것으로서, 일반적인 건식장치는 하부 전극 하부에 냉각라인이 설치되어 있어, 플라즈마에 의해 하부 전극의 온도가 올라가는 것을 방지한다. 그러나, 냉각라인이 위치한 곳과 그렇지 않은 곳에서 온도 차이가 발생하고, 액체 냉각제를 이용하여 신속하게 온도를 감소시킬 수 없어 박막의 식각시 얼룩이 나타난다. 본 발명에서는 하부 전극 내부에 냉각부를 형성하는데, 냉각부가 하부 전극의 전면에 대응하도록 하고, 기체로 이루어진 냉각제를 사용함으로써 하부 전극의 온도를 균일하게 할 수 있다. 이에 따라, 하부 전극 상부의 식각되는 반응물의 온도도 균일하게 되므로, 얼룩을 방지하고, 생산성을 향상시킬 수 있다. 건식식각, 냉각, 기체 냉각제 |
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Int. CL | H01L 21/3065 (2006.01) |
CPC | H01J 37/32724(2013.01) H01J 37/32724(2013.01) H01J 37/32724(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020010003290 (2001.01.19) |
출원인 | 엘지디스플레이 주식회사 |
등록번호/일자 | 10-0688229-0000 (2007.02.22) |
공개번호/일자 | 10-2002-0062065 (2002.07.25) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20070228) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2006.01.12) |
심사청구항수 | 5 |