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건식식각 장치

  • 기술번호 : KST2015024527
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요약 본 발명은 박막의 건식식각 장치에 관한 것이다. 종래의 건식식각 장치는 상부 전극에 다수의 홀이 형성되어 있어, 챔버의 상부면으로부터 주입된 반응가스가 상부 전극의 홀을 통해 상부 전극과 하부 전극 사이의 반응영역으로 이동하여 플라즈마를 형성한다. 상부 전극은 일반적으로 알루미늄계 물질로 형성되고, 반응가스에 상부 전극이 부식되는 것을 방지하기 위해 보호막으로 덮여 있다. 그런데, 이러한 보호막은 홀 부분에서 결합력이 약하기 때문에, 플라즈마 형성시 크랙이 발생하고 이에 따라 기판 상에 불순물이 떨어지게 된다. 본 발명에서는 상부 전극에 홀을 형성하지 않고 상부 전극 외곽에 다수의 노즐을 형성하여 반응가스를 분사한다. 따라서, 플라즈마 발생시 상부 전극의 보호막에 크랙이 발생하지 않고, 보호막에 의한 불순물의 발생도 방지할 수 있다. 건식식각, 노즐,
Int. CL H01L 21/3065 (2000.01)
CPC H01J 37/3244(2013.01) H01J 37/3244(2013.01)
출원번호/일자 1020010050645 (2001.08.22)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0780285-0000 (2007.11.22)
공개번호/일자 10-2003-0016864 (2003.03.03) 문서열기
공고번호/일자 (20071128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.08.21)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신상윤 대한민국 경상북도구미시임

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2001-0210219-33
2 보정통지서
Request for Amendment
2001.09.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2001-0047249-16
3 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items
2001.09.18 수리 (Accepted) 1-1-2001-0238734-80
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.08.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0593929-41
5 출원심사청구서
Request for Examination
2006.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2006-0593926-15
6 대리인변경신고서
Agent change Notification
2006.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2006-0593925-69
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.05.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.06.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0031992-70
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0346828-93
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.08.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0619650-42
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2007-0619651-98
12 등록결정서
Decision to grant
2007.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0619329-47
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
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번호 청구항
1 1
챔버와;상기 챔버 내부에 위치하는 상부 전극과;상기 상부 전극과 이격되어 위치하며 처리되는 대상물이 안치되는 하부 전극과;반응가스를 상기 챔버 내부로 유입하는 가스유입부와;상기 상부전극의 측면에 위치하며, 상기 가스유입부로 유입된 상기 반응가스를 상기 상부전극과 하부전극 사이로 전달하는 노즐과;상기 챔버 내부의 공기를 배출시키기 위한 배기부와;상기 상부 전극 및 하부 전극과 연결되어 있는 전력 공급부를 포함하는 건식식각 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 상부전극 둘레에 세라믹으로 이루어진 실드를 더 포함하는 건식식각 장치
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 노즐은 상기 상부 전극과 상기 실드 사이에 위치하는 건식식각 장치
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 노즐은 상기 실드 바깥쪽에 위치하는 건식식각 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 노즐은 일자형이거나 또는 하단부가 상기 상부 전극의 하부에서 수평하게 연장되는 'ㄴ'자 형태인 것을 특징으로 하는 건식식각 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.