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유리기판의 상부에 이격되게 형성된 차광층; 상기 차광층사이에 노출된 유리기판상에 형성된 색상층; 상기 유리기판 전체에 형성된 유기계 오버코팅층; 상기 유기계 오버코팅층의 상부전면에 형성된 이물발생 방지층; 및상기 이물발생 방지층의 상부에 형성된 투명전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 박막 트랜지스터 표시소자의 칼라필터
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제 1항에 있어서, 상기 이물발생 방지층은 실리콘계의 절연막인 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 칼라필터
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유리기판의 상부에 이격되게 복수의 차광층을 형성하는 단계; 상기 차광층사이에 노출된 유리기판상에 색상층을 형성하는 단계; 상기 구조의 상부전면에 오버코팅층을 형성하는 단계; 상기 오버코팅층의 상부에 이물발생 방지층을 형성하는 단계; 및상기 이물발생 방지층의 상부에 투명전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 칼라필터 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 이물발생 방지층은 실리콘계 절연막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 칼라필터 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 이물발생 방지층은 0보다 크고 250℃ 이하의 온도 분위기하에서 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 칼라필터 제조방법
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하판상에 형성된 게이트전극;상기 게이트전극상에 형성된 게이트절연막과 액티브영역;상기 액티브영역상에 형성된 소스 및 드레인;상기 하판상에 형성되고 상기 드레인을 노출시키는 콘택홀이 구비된 패시베이션막;상기 패시베이션막상에 형성되고 상기 드레인과 연결되는 픽셀전극;상판의 상부에 이격되게 형성된 차광층; 상기 차광층사이에 노출된 상판상에 형성된 색상층; 상기 상판 전체에 형성된 유기계 오버코팅층; 상기 유기계 오버코팅층의 상부전면에 형성된 이물발생 방지층;상기 이물발생 방지층의 상부에 형성된 투명전극; 및상기 하판과 상판사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 박막 트랜지스터 표시소자
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제 6항에 있어서, 상기 이물발생 방지층은 실리콘계의 절연막인 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자
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하판상에 게이트전극을 형성하는 단계;상기 게이트전극상에 게이트절연막과 액티브영역을 적층하는 단계;상기 액티브영역상에 소스 및 드레인을 형성하는 단계;상기 하판상에 패시베이션막을 형성하고 상기 패시베이션막에 상기 드레인을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계;상기 패시베이션막상에 상기 드레인과 연결되는 픽셀전극을 형성하는 단계;상기 하판에 제1배향막을 형성하는 단계;상판 상부에 이격되게 복수의 차광층을 형성하는 단계; 상기 차광층사이에 노출된 상판 상에 색상층을 형성하는 단계; 상기 구조의 상부전면에 오버코팅층을 형성하는 단계; 상기 오버코팅층의 상부에 이물발생 방지층을 형성하는 단계;상기 이물발생 방지층의 상부에 투명전극을 형성하는 단계;상기 상판에 제2배향막을 형성하는 단계;상기 하판과 상판을 합착시키는 단계; 및상기 합착된 하판과 상판사이에 액정을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 이물발생 방지층은 실리콘계 절연막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 제조방법
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10
제 8항에 있어서, 상기 이물발생 방지층은 0보다 크고 250℃ 이하의 온도 분위기하에서 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 표시소자의 제조방법
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