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기판 상에 배향막을 형성하는 단계와;상기 배향막을 A영역과 B영역으로 정의하는 단계와;상기 기판의 하부에 투과부와 반사부로 구성된 마스크를 위치시키는 단계와;상기 마스크의 투과부가 상기 A영역에 대응하도록 하고, 반사부가 상기 B영역에 대응하여 위치하도록 하는 단계와;상기 기판의 상부에서 자외선을 조사하여, 상기 A영역은 상기 자외선이 1회 조사되어 제 1 배향특성을 가지도록 하고, 상기 B영역에 해당하는 배향막은 상기 자외선이 상기 반사부에 의해 반사되어 2회 조사됨으로써 제 2 배향특성을 가지도록 하는 단계를포함하는 2 도메인 형성방법
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제 1 항에 있어서, 상기 배향막은 자외선에 의해 배향특성이 달라지는 광 경화 물질인 2 도메인 형성방법
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기판 상에 게이트전극과 게이트 배선을 형성하는 단계와; 상기 게이트 전극과 게이트배선이 형성된 기판의 전면에 제 1 절연막인 게이트 절연막을 형성하는 단계와;상기 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 상에 액티브층과 오믹 콘택층을 형성하는 단계와;상기 오믹 콘택층과 접촉하며 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극과, 상기 소스 전극과 연결되며 상기 게이트 배선과 교차하여 화소를 정의하는 데이터 배선을 형성하는 단계와;상기 소스 및 드레인 전극이 형성된 기판의 전면에 상기 드레인 전극 일부를 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호막을 형성하는 단계와;상기 화소에 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접촉하는 투명 화소전극을 형성하는 단계와;상기 투명 화소전극이 형성된 기판의 전면에 배향막을 형성하는 단계와;상기 배향막이 형성된 다수의 화소를 A영역과 B영역으로 정의하고, 상기 기판의 하부에 투과부와 반사부로 구성되는 마스크를 상기 투과부가 상기 A영역에, 상기 반사부가 상기 B영역에 대응되도록 위치시키는 단계와;상기 기판의 상부에서 자외선을 조사하여, 하나의 화소가 배향 특성이 서로 다른 2 도메인 구조가 되도록 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 배향막은 자외선에 의해 배향특성이 달라지는 광 경화 물질인 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 B영역의 배향막에 있어서는 상기 기판의 상부에서 조사된 자외선이 상기 마스크의 반사부에 의해 1회 더 조사됨으로써 상기 A영역의 배향막과 배향 특성을 달리하게 되는 것이 특징인 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 3 항에 있어서, 상기 액티브층은 순수 비정질 실리콘(a-Si:H)으로 형성하고, 상기 오믹 콘택층은 불순물 비정질 실리콘(n+a-Si:H)으로 형성하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 3 항에 있어서, 상기 투명 화소전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 포함하는 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나로 형성하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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제 3 항에 있어서, 상기 투명 화소전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 포함하는 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나로 형성하는 액정표시장치용 어레이기판 제조방법
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