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박막트랜지스터 및 화소전극이 형성된 제 1 기판과,상기 제 1 기판과 대향하여 칼라필터층 및 공통전극이 형성된 제 2 기판과,상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 형성된 액정층과, 그리고상기 공통전극과 상기 제 1 기판을 전기적으로 접지시키기 위해 형성된 복수개의 패턴드 은 패이스트를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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제 1 항에 있어서, 상기 패턴드 은 패이스트는 상기 제 2 기판에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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제 1 항에 있어서, 상기 패턴드 은 패이스트는 상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판의 용착을 위해 상기 2 기판의 상기 공통전극보다 먼저 형성된 것을 특징으로 한는 액정표시소자
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제 1 항에 있어서, 상기 패턴드 은 패이스트는 일정한 두께를 갖는 〓 또는 ∼ 컬럼 모양으로 기판의 가장자리에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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5
제 1 항에 있어서, 상기 패턴드 은 패이스트는 ○, △, □, 오각형과 같은 도형 모양으로 복수개 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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박막트랜지스터 및 화소 전극 형성 공정을 마친 제 1 기판 또는 칼라필터 및 공통전극 형성 공정을 마친 제 2 기판상에 제 1 항 내지 제 5 항 중 적어도 한 항을 만족하는 패턴드 은 패이스트를 형성하는 공정과,상기 패턴드 은 패이스트가 형성된 상기 기판 상에 배향막을 형성하는 공정과,상기 패턴드 은 패이스트가 형성된 상기 기판 상에 셀갭의 유지를 위해 스페이서를 형성하는 공정과,상기 스페이서가 형성된 상기 기판의 가장자리에 씰제를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 패턴드 은 패이스트는 포토리소그래피 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 제 2 기판 상에 상기 패턴드 은 패이스트가 형성된 후 상기 공통전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 제 2 기판 상에 상기 패턴드 은 패이스트가 형성된 후 상기 공통전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법
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