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제 1기판 및 제 2기판과, 상기 제 1기판 위에 형성되며, 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 제 1기판 위에 형성되는 게이트로우배선과, 상기 게이트로우배선 위에 형성되며, 상기 게이트로우배선과 연결된 ITO막과, 상기 제 2기판 위에 형성되며, 상기 화소 영역 내에 형성된 스페이서와, 상기 제 2기판 위에 형성된 시일재와, 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 형성된 액정층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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제 1항에 있어서, 상기 시일재에는 광경화형 시일재인 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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3 |
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제 2항에 있어서, 상기 광경화형 시일재는 열경화형 시일재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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제 1항에 있어서, 상기 액정층은 상기 제 1기판 또는 제 2기판 위에 적하하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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5 |
5
제 1항에 있어서, 상기 게이트로우배선 상부에 형성된 보호막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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6
제 5항에 있어서, 상기 게이트로우배선과 상기 ITO막은 상기 보호막의 홀에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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7
제 1항에 있어서, 상기 게이트로우배선은 저저항배선인 것을 특징으로 하는 액정표시소자
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8 |
8
제 1기판 위에 게이트 배선 및 데이터 배선을 형성하여 화소 영역을 정의하는 단계와, 상기 제 1기판 위에 게이트로우배선을 형성하는 단계와, 상기 게이트로우배선 위에 형성하여 상기 게이트로우배선과 연결되는 ITO막을 형성하는 단계와, 제 2기판 위의 상기 화소 영역 내에 스페이서를 형성하는 단계와, 상기 제 2기판 위에 시일재를 형성하는 단계와, 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 액정층을 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 시일재에는 광경화형 시일재인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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10
제 9항에 있어서, 상기 광경화형 시일재는 열경화형 시일재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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11
제 8항에 있어서, 상기 액정층은 상기 제 1기판 또는 제 2기판 위에 적하하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 게이트로우배선이 형성된 결과물 상부에 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 12항에 있어서, 상기 게이트로우배선과 상기 ITO막은 상기 보호막의 홀에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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제 12항에 있어서, 상기 게이트로우배선과 상기 ITO막은 상기 보호막의 홀에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법
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