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플라즈마 화학기상증착 장치 및 증착 방법

  • 기술번호 : KST2015025416
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요약 본 발명은 플라즈마 화학기상 증착 장치 및 증착 방법에 관한 것으로, 본 발명의 플라즈마 화학기상 증착 장치는 기판의 에지 부분을 오버랩 할 수 있는 블래이드를 고정된 새도우 프레임에 연결하여 서셉터의 상하 운동에 따라 함께 이동시킬 수 있으므로 기판의 로딩 시 기판의 에지를 보호하고, 상기 기판의 증착면적을 늘일 수 있기 때문에 수율을 향상시킬 수 있다. 플라즈마 화학기상 증착(PECVD), 새도우 프레임(Shadow frame), 블래이드(Blade)
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/4583(2013.01) C23C 16/4583(2013.01) C23C 16/4583(2013.01) C23C 16/4583(2013.01)
출원번호/일자 1020020023060 (2002.04.26)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0875183-0000 (2008.12.15)
공개번호/일자 10-2003-0084378 (2003.11.01) 문서열기
공고번호/일자 (20081222) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.04.23)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기현 대한민국 경상북도구미시임
2 고재생 대한민국 경상북도칠곡군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 심창섭 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 **, 현대빌딩 *층 (잠실동)(KBK특허법률사무소)
2 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2002-0127122-12
2 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.04.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0305304-39
3 출원심사청구서
Request for Examination
2007.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2007-0305305-85
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0331613-78
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.07.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0541687-14
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0541689-05
8 등록결정서
Decision to grant
2008.11.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0594796-59
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 챔버 내에서 기판을 지지하기 위한 서셉터와,상기 서셉터에 평행하고 상기 기판 상에 소스가스를 균일하게 공급하기 위한 샤워헤더와,상기 서셉터의 기준면이 되는 핀 플레이트와,상기 핀 플레이트에 고정되어 상기 서셉터의 상하 운동을 유도하기 위한 에로우 핀과,상기 챔버의 내벽에 고정된 새도우 프레임과,상기 새도우 프레임에 연결되어 상기 서셉터의 상하 운동에 따라 이동되고 상기 기판의 에지부분을 보호하기 위한 블래이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상 증착 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 블래이드는 상기 기판의 에지부분을 보호하기 위해 상기 기판의 에지 부분의 길이를 3mm로 오버랩하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 기판 면에 박막을 증착하기 위해 상기 서셉터가 상승할 경우 상기 블래이드가 상기 새도우 프레임의 최상측에 위치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상 증착 장치
4 4
챔버 내의 서셉터 상에 기판을 위치하는 단계와;상기 챔버 내벽에 새도우 프레임이 고정되고 상기 서셉터의 상하운동에 따라 상기 기판의 에지 부분을 보호하기 위한 블래이드가 함께 이동하는 단계와;상기 블래이드가 정지하고 상기 기판 상에 박막을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 방법
5 5
제 4항에 있어서,상기 챔버 내벽에 새도우 프레임이 고정되고 상기 서셉터의 상하운동에 따라 블래이드가 함께 이동하는 단계는상기 서셉터가 상기 서셉터의 기준면이 되는 핀 플레이트에 고정된 에로우 핀에 구속되어 상기 블래이드가 상기 새도우 프레임의 최상측에 위치하도록 상승하는 단계와;상기 서셉터의 상승과 동시에 상기 기판의 에지 부분이 상기 블래이드와 접촉하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 방법
6 6
제 4항에 있어서,상기 기판 상에 박막을 증착하는 단계는상기 서셉터에 평행한 샤워헤드를 통하여 소스가스를 유입시키는 단계와; 상기 샤워헤드에 구비된 플라즈마 전극을 통해 공급되는 RF파워에 의해 플라즈마 공간을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 방법
7 7
제 6항에 있어서,상기 소스가스를 배기구를 통해 배기하는 단계와;상기 서셉터와 상기 블래이드가 함께 하강하여 상기 기판의 에지 부분이 상기 블래이드에 이탈되는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.