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포토레지스트가 형성된 유리 기판; 상기 유리 기판을 수납하는 카세트; 상기 카세트내에 수납된 유리 기판을 받아 유리 기판의 전면에 UV를 조사시키는 UV 조사부; 상기 UV조사된 유리 기판을 받고 외부로부터 염기성 용액을 공급받아 포토레지스트를 제거하는 스트립부; 상기 스트립 챔버에서 포토레지스트가 제거된 유리 기판을 받아 세정하는 세정부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거장치
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포토레지스트가 형성된 유리 기판; 상기 유리 기판을 수납하는 카세트; 상기 카세트내에 수납된 유리 기판을 받아 유리 기판의 전면에 UV를 조사시키는 UV 조사부; 상기 UV조사된 유리 기판을 받고 외부로부터 스트립 용액을 공급받아 포토레지스트를 제거하는 스트립부; 상기 스트립부로부터 포토레지스트가 제거된 유리 기판을 받아 외부로부터 IPA 용액을 공급받아 유리 기판에 스트립 용액이 응축되는 것을 방지하기 위해 세척하는 IPA 처리부; 상기 IPA 처리부에서 세척된 유리 기판을 받아 세정하는 세정부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 스트립 용액은 알칼리계 용액인 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거장치
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반응 챔버와, 상기 반응 챔버의 내부에 구성되어 포토레지스트가 형성된 유리 기판이 놓여지는 스테이지와, 상기 반응 챔버의 상측에 구성되어 상기 유리 기판의 전면에 UV를 조사시키는 UV 조사부와, 상기 유리 기판의 전면에 염기성 용액을 분사하는 분사 노즐과, 상기 분사 노즐을 통해 분사되는 염기성 용액을 저장하는 용액 저장부를 포함하여 구성됨을 특징으로 포토레지스트의 제거장치
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포토레지스트가 패터닝된 유리 기판의 전면에 UV를 조사시키는 단계;상기 유리 기판의 전면에 염기성 용액을 분사시키어 상기 포토레지스트를 제거하는 단계;상기 유리 기판을 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거방법
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제 5 항에 있어서, 상기 염기성 용액에 부식 방지제를 첨가하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거방법
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포토레지스트가 패터닝된 유리 기판의 전면에 UV를 조사시키는 단계;상기 UV가 조사된 유리 기판의 전면에 스트립 용액을 분사시키어 상기 포토레지스트를 제거하는 단계;상기 유리 기판의 전면에 IPA 용액을 분사하여 유리 기판의 표면을 세척하는 단계;상기 유리 기판을 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거방법
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포토레지스트가 형성된 유리 기판을 반응 챔버내의 스테이지상에 탑재하는 단계; 상기 스테이지상에 탑재된 유리 기판의 전면에 UV를 조사하는 단계; 상기 반응 챔버내에 염기성 용액을 공급하여 상기 유리 기판상에 형성된 포토레지스트를 제거하는 단계를 포함하여 형성함을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거방법
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제 8 항에 있어서, 상기 염기성 용액에 부식 방지제를 첨가하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트의 제거 방법
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