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배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치

  • 기술번호 : KST2015026612
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요약 본 발명은 액정 표시 장치에서 배향막에 직진성이 향상된 이온빔을 조사하여 액정 배향을 균일하게 하는 이온빔 조사 장치에 관한 것이다. 발명에 따른 배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치는, 진공 용기 내에 소정의 각도로 기울어져 배치되는 기판과; 상기 기판의 전면에 조사되는 이온 빔을 발생하여 인출하는 이온 빔 소스와; 상기 기판과 이온 빔 소스 사이에 위치하며 소정의 차단부와 통과부를 형성하는 집적 매질;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 상기 이온 빔 소스와 기판 사이에 위치한 집적 매질에 의해서 특정 각도 이상으로 확산되는 이온 빔을 선택적으로 차단시켜 이온 빔의 조사 방향을 집중 시킴으로써 상기 이온 빔의 직진성을 향상시켜 액정 배향의 균일성을 향상시킬 수 있다. 이온 빔, 배향, 집적 매질, 차단부, 통과부, 배향막, 조사 각도
Int. CL H01J 37/30 (2006.01)
CPC H01J 37/3171(2013.01)
출원번호/일자 1020020085415 (2002.12.27)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0488065-0000 (2005.04.28)
공개번호/일자 10-2004-0058897 (2004.07.05) 문서열기
공고번호/일자 (20050506) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.12.27)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이윤복 대한민국 서울특별시마포구
2 함용성 대한민국 경기도안양시동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허용록 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 현죽빌딩)(선영특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2002-0433820-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.06.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2004-0043863-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0450737-95
5 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.12.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0604403-27
6 의견서
Written Opinion
2004.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2004-0604404-73
7 등록결정서
Decision to grant
2005.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0169586-17
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
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번호 청구항
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진공 용기 내에 소정의 각도로 기울어져 배치되는 기판과; 상기 기판의 전면에 조사되는 이온 빔을 발생하여 인출하는 이온 빔 소스와; 상기 기판과 이온 빔 소스 사이에 위치하며 소정의 차단부와 통과부를 형성하는 집적 매질;을 포함하여 이루어지며, 상기 집적 매질은 통과하는 이온 빔에 대해서 균일한 투과율을 가지도록 하는 것을 특징으로 하는 배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치
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제 1항에 있어서, 상기 이온 빔 소스는, 주입된 가스를 이온과 전자로 전리시키는 수단과; 상기 이온을 빔의 형태로 인출시키는 인출 수단과; 상기 인출된 이온 빔이 가속되어 기판에 도달하도록 하는 가속 수단;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치
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제 1항에 있어서, 상기 이온은 아르곤(Ar) 이온인 것을 특징으로 하는 배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치
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제 1항에 있어서, 상기 집적 매질의 차단부는 이온 빔에 대해서 흡수하는 매질 또는 반사시키는 매질로 이루어진 것을 특징으로 하는 배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치
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6 5
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국가 R&D 정보가 없습니다.