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스캔 방식 노광 설비의 마스크

  • 기술번호 : KST2015026785
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요약 본 발명은 스캔 방식 노광 설비의 마스크에 관한 것으로서, 스캔에 의한 노광 공정시 발생되는 스캔 방향 편차를 적절하게 제어하기 위해 마스크 몸체와, 각 모서리와 스캔 방향에 수직하는 한 쌍의 외주 변 각 모서리 사이에 형성되는 토탈 피치 키를 가지며 상기 마스크 몸체에 형성되는 하나 이상의 패턴 영역과, 상기 패턴 영역 주위에 형성되는 정렬 키를 포함하는 스캔 방식 노광 설비의 마스크를 제공한다. 본 발명에 의하면 부가되는 토탈 피치 키를 사용하여 스캔 방향의 편차를 더욱 정밀하게 제어할 수 있도록 함으로서 연속되는 노광 공정에 있어 높은 층간 중첩 정밀도를 구현할 수 있게 해준다. 마스크, 토탈 피치 키
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01)
출원번호/일자 1020020086726 (2002.12.30)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0503130-0000 (2005.07.14)
공개번호/일자 10-2004-0060187 (2004.07.06) 문서열기
공고번호/일자 (20050721) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.12.30)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이창준 대한민국 경상북도구미시임
2 김용환 대한민국 대구광역시북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2002-0437095-15
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.12.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.01.18 수리 (Accepted) 9-1-2005-0002130-03
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0065154-91
5 대리인변경신고서
Agent change Notification
2005.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2005-0183392-38
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.04.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0183393-84
7 의견서
Written Opinion
2005.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2005-0183394-29
8 등록결정서
Decision to grant
2005.07.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0331649-07
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
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번호 청구항
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광원과, 마스크를 지지하는 마스크 스테이지, 상기 기판을 지지하는 기판 스테이지를 포함하고, 상기 광원에 대해 상기 마스크와 상기 기판을 상대적으로 일 방향으로 이동하여 상기 광원으로부터 상기 마스크를 투과한 빛으로 상기 기판을 노광하는 스캔 방식 설비의 마스크로서,적어도 하나의 패턴영역이 형성된 마스크 몸체와;상기 패턴영역 각각의 모서리에 형성되어 합착을 위한 기준이 되는 토탈 피치 키와;상기 패턴영역 각각의 상기 일 방향에 수직한 양 가장자리를 따라 상기 토탈 피치 키 사이로 등 간격 배열되어, 상기 스캔 방향으로 발생되는 노광편차의 제어 기준이 되는 복수개의 기준키와;상기 마스크 몸체의 상기 패턴영역 주위로 형성된 정렬키를 포함하는 것을 특징으로 하는 스캔 방식 노광 설비의 마스크
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제 1항에 있어서,상기 기준키는 3개인 것을 특징으로 하는 스캔 방식 노광 설비의 마스크
3 3
제 1항에 있어서,상기 기준키는 5개인 것을 특징으로 하는 스캔 방식 노광 설비의 마스크
4 4
삭제
5 4
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.