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종횡 노광이 가능한 정렬 키를 가지는 마스크 및 이를이용한 노광 방법

  • 기술번호 : KST2015026930
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요약 본 발명은 스캔 방식의 노광 설비에 사용되는 마스크에 관한 것으로서, 마스크에 형성되는 정렬 키를 추가로 부가하여 종횡 노광이 가능한 마스크와 이에 의한 노광 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 기판에 대한 전체 노광 공정 횟수를 줄일 수 있게 해줄 뿐 아니라, 서로 다른 노광 설비를 하나의 생산라인에서 운용할 수 있는 이점이 가진다. 마스크, 정렬 키
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01) G03F 9/7076(2013.01)
출원번호/일자 1020020087892 (2002.12.31)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-0911033-0000 (2009.07.30)
공개번호/일자 10-2004-0061611 (2004.07.07) 문서열기
공고번호/일자 (20090805) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.12.17)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이창준 대한민국 경상북도구미시임

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 네이트특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2002-0440172-04
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2007.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2007-0906637-13
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2007-0906611-26
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.02.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.03.18 수리 (Accepted) 9-1-2009-0017859-56
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0133607-49
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2009-0308294-54
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.05.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0308293-19
10 등록결정서
Decision to grant
2009.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0315918-57
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
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번호 청구항
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마스크 몸체와, 상기 마스크 몸체에 형성되는 하나 이상의 패턴 영역과, 상기 각 패턴 영역의 대향하는 한 쌍의 외주 변과 상기 마스크 몸체 사이 부분에 형성되는 제1마스크 정렬 키와, 상기 각 패턴 영역의 대향하는 한 쌍의 다른 외주 변과 상기 마스크 몸체 사이 부분에 형성되는 제2마스크 정렬 키를 포함하는 마스크를 이용하여 기판을 스캔 방식으로 노광하는 방법으로서, 기판 몸체와, 상기 기판 몸체에 형성되는 하나 이상의 전사 영역을 가지며 상기 마스크의 제1, 제2마스크 정렬 키에 대응되는 제1, 제2기판 정렬 키를 포함하는 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판의 제1기판 정렬 키와, 상기 마스크의 제1마스크 정렬 키를 이용하여 상기 기판과 마스크를 정렬하는 단계와, 일 방향으로 상기 기판의 각 전사 영역에 상기 마스크의 각 패턴 영역을 스캔 방식으로 1차 노광하는 단계와, 1차 노광된 상기 기판의 제2기판 정렬 키와, 상기 마스크의 제2마스크 정렬 키를 이용하여 상기 기판과 마스크를 정렬하는 단계와, 1차 노광과 수직하는 일 방향으로 상기 기판의 각 전사 영역에 상기 마스크의 각 패턴 영역을 스캔 방식으로 2차 노광하는 단계 를 포함하는 노광 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.