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n-GaAs 기판 상면에 n-클래드층, 활성층, 제 1 p-클래드층, 식각 저지층을 순차적으로 형성하는 제 1 단계; 상기 식각 저지층 상면에 제 2 p-클래드층, p-캡층, 리지 마스크층을 순차적으로 증착하고, 증착한 리지 마스크층을 패터닝시켜 이를 마스크로 하여 상기 p-캡층과 제 2 p-클래드층을 리지로 형성하는 제 2 단계; 상기 리지가 형성된 소자의 상면을 따라 상기 소자의 상면과 동일한 형상으로 제 1 전류 차단층과, 제 2 전류 차단층을 순차적으로 형성하는 제 3 단계; 상기 제 2 전류 차단층 상면을 따라 포토 레지스트를 도포하고 패터닝하여 소정의 채널(channel) 및 트렌치(trench) 형성 영역에 각기 포토 레지스트(PR) 개구부를 형성하는 제 4 단계; 상기 포토 레지스트 개구부를 통해 소정의 식각 용액을 주입하여 그 하부의 제 2 전류 차단층 일부를 제거시켜 리지 마스크층을 노출시키고, 상기 제 2 전류 차단층부터 상기 n-클래드층의 일부를 수직 방향으로 식각하여 노출시키는 제 5 단계; 상기 노출된 리지 마스크층을 제거하여 p-캡층을 노출시키고, 상기 노출된 n-클래드층의 일부를 제거하여 n-GaAs 기판의 일부를 노출시키는 제 6 단계; 상기 남아 있는 포토 레지스트를 제거하여 노출된 소자의 상면을 따라 p-패드 전극을 형성하고, 상기 n-GaAs기판의 하면에 n-패드 전극을 형성하는 제 7 단계로 이루어지는, 반도체 레이저 다이오드 어레이 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 3 단계의 제 1 전류 차단층은 InGaP로 이루어지고, 상기 제 2 전류 차단층은 n-GaAs로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 반도체 레이저 다이오드 어레이 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 전류 차단층은 상기 제 1 전류 차단층보다 두꺼운 것을 특징으로 하는, 반도체 레이저 다이오드 어레이 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 5 단계는; 상기 포토 레지스트 개구부를 통해 그 하부의 제 2 전류 차단층을 식각하여 상기 리지 마스크층 상면의 제 1 전류 차단층과 상기 식각 저지층 상면 일부의 제 1 전류 차단층을 노출시키는 제 51 단계; 상기 노출된 제 1 전류 차단층을 식각하여 상기 리지 마스크층과 상기 식각 저지층의 일부를 노출시키는 제 52 단계; 상기 노출된 식각 저지층부터 n-클래드층의 일부까지 수직 방향으로 식각하여 n-클래드층의 일부를 노출시키는 제 53 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 반도체 레이저 다이오드 어레이 제조 방법
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n-GaAs 기판 상면에 n-클래드층, 활성층, 제 1 p-클래드층, 식각 저지층을 순차적으로 형성하고; 상기 식각 저지층 상면에 제 2 p-클래드층, p-캡층, 리지 마스크층을 순차적으로 증착하고, 증착한 리지 마스크층을 패터닝시켜 이를 마스크로 하여 상기 p-캡층과 제 2 p-클래드층을 리지로 형성하고; 상기 리지가 형성된 소자의 상면을 따라 상기 소자의 상면과 동일한 형상으로 제 1 전류 차단층과, 제 2 전류 차단층을 순차적으로 형성하고; 상기 제 2 전류 차단층 상면을 따라 포토 레지스트를 도포하고 패터닝하여 소정의 채널(channel) 및 트렌치(trench) 형성 영역에 각기 PR 개구부를 형성하고; 상기 PR 개구부를 통해 소정의 식각 용액을 주입하여 그 하부의 제 2 전류 차단층 일부를 제거시켜 리지 마스크층을 노출시키고, 상기 제 2 전류 차단층부터 상기 n-클래드층의 일부를 수직 방향으로 식각하여 노출시키며; 상기 노출된 리지 마스크층을 제거하여 p-캡층을 노출시키고, 상기 노출된 n-클래드층의 일부를 제거하여 n-GaAs 기판의 일부를 노출시키며; 상기 남아 있는 포토 레지스트를 제거하여 노출된 소자의 상면을 따라 p-패드 전극을 형성하고, 상기 n-GaAs기판의 하면에 n-패드 전극을 형성하여 이루어지는 반도체 레이저 다이오드 어레이
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n-GaAs 기판 상면에 n-클래드층, 활성층, 제 1 p-클래드층, 식각 저지층을 순차적으로 형성하고; 상기 식각 저지층 상면에 제 2 p-클래드층, p-캡층, 리지 마스크층을 순차적으로 증착하고, 증착한 리지 마스크층을 패터닝시켜 이를 마스크로 하여 상기 p-캡층과 제 2 p-클래드층을 리지로 형성하고; 상기 리지가 형성된 소자의 상면을 따라 상기 소자의 상면과 동일한 형상으로 제 1 전류 차단층과, 제 2 전류 차단층을 순차적으로 형성하고; 상기 제 2 전류 차단층 상면을 따라 포토 레지스트를 도포하고 패터닝하여 소정의 채널(channel) 및 트렌치(trench) 형성 영역에 각기 PR 개구부를 형성하고; 상기 PR 개구부를 통해 소정의 식각 용액을 주입하여 그 하부의 제 2 전류 차단층 일부를 제거시켜 리지 마스크층을 노출시키고, 상기 제 2 전류 차단층부터 상기 n-클래드층의 일부를 수직 방향으로 식각하여 노출시키며; 상기 노출된 리지 마스크층을 제거하여 p-캡층을 노출시키고, 상기 노출된 n-클래드층의 일부를 제거하여 n-GaAs 기판의 일부를 노출시키며; 상기 남아 있는 포토 레지스트를 제거하여 노출된 소자의 상면을 따라 p-패드 전극을 형성하고, 상기 n-GaAs기판의 하면에 n-패드 전극을 형성하여 이루어지는 반도체 레이저 다이오드 어레이
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