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질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법

  • 기술번호 : KST2015027099
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요약 본 발명은 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법에 관한 것으로, 사파이어 기판의 상부에, 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층을 성장시키는 단계와; 상기 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층의 상부에 이원계 질화물 버퍼층을 성장시키는 단계와; 상기 이원계 질화물 버퍼층 상부에 질화물 화합물 반도체층을 성장시키는 단계로 구성된다. 따라서, 본 발명은 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층의 상부에 질화물 화합물 반도체층을 성장시킴으로써, 전기적 및 결정학적 특성을 향상시킬 수 있는 효과가 발생한다. 질화물, 반도체, 알루미늄, 버퍼층
Int. CL H01L 33/16 (2014.01)
CPC
출원번호/일자 1020030005948 (2003.01.29)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0504180-0000 (2005.07.20)
공개번호/일자 10-2004-0069526 (2004.08.06) 문서열기
공고번호/일자 (20050728) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.01.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신종언 대한민국 경기도성남시분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박창남 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길 **, *층 (서초동, 명지빌딩)(나이스국제특허법률사무소)
2 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
3 장재용 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **-*, *층(역삼동, 대명빌딩)(휴피아국제특허법률사무소)
4 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
5 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
6 조담 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2003-0034420-00
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.10.16 수리 (Accepted) 4-1-2003-0055522-32
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.06.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2004-0044124-67
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0041674-69
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2005-0152267-13
7 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
2005.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0219811-56
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.04.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0219821-13
9 의견서
Written Opinion
2005.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0219820-67
10 등록결정서
Decision to grant
2005.07.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0335183-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
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번호 청구항
1 1
사파이어 기판을 고온에서 열처리한 후, 암모니아(NH3)를 흘려주어 사파이어 기판의 상부에, 질화막을 형성하는 단계와;상기 질화막 상부에 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층을 성장시키는 단계와;상기 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층 상부에 알루미늄(Al)을 포함하지 않는 질화물 버퍼층을 형성하는 단계와;상기 알루미늄을 포함하지 않는 질화물 버퍼층의 상부에 이원계 질화물 버퍼층을 성장시키는 단계와;상기 이원계 질화물 버퍼층 상부에 질화물 화합물 반도체층을 성장시키는 단계로 구성된 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층은 AlxGayInzN (0< x ≤1, 0≤y ≤1, 0≤z ≤1)인 것을 특징으로 하는 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
4 4
제 1 에 있어서, 상기 알루미늄을 포함하지 않는 질화물 버퍼층은 GaxInyN층 (0≤x ≤1, 0≤y≤1)인 것을 특징으로 하는 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 이원계 질화물 버퍼층은 AlN, GaN, InN와 SiNx 중 선택된 어느 하나 인것을 특징으로 하는 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 질화물 화합물 반도체층은 GaN층인 것을 특징으로 하는 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
7 7
삭제
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층, 알루미늄을 포함하지 않는 질화물 버퍼층과 이원계 질화물 버퍼층은, 400-600℃의 온도에서 10-1000Å 두께로 성장시키는 것을 특징으로 하는 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
9 8
제 1 항에 있어서, 상기 알루미늄을 포함하는 질화물 버퍼층, 알루미늄을 포함하지 않는 질화물 버퍼층과 이원계 질화물 버퍼층은, 400-600℃의 온도에서 10-1000Å 두께로 성장시키는 것을 특징으로 하는 질화물 화합물 반도체의 결정성장 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP01445355 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP01445355 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP16235646 JP 일본 FAMILY
4 US07023025 US 미국 FAMILY
5 US20040264248 US 미국 FAMILY
6 US20060118810 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP1445355 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
2 EP1445355 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 JP2004235646 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 US2004264248 US 미국 DOCDBFAMILY
5 US2006118810 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US7023025 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.