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기판 상에 고분자로 이루어진 하부 클래드 층 및 코어 층을 형성하는 단계와;
상기 코어 층 상에 몰드를 눌러 패턴을 전사하는 단계와;
상기 고분자를 경화하는 단계와;
상기 몰드를 코어 층으로부터 분리하는 단계와;
상기 코어 층 상에 상부 클래드 층을 형성하는 단계와;
상기 상부 클래드 층 상에 전극을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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제 1항에 있어서,
상기 몰드를 제작하는 데 있어서,
기판 상에 고분자 층을 형성하는 단계와;
상기 고분자 층을 패터닝하는 단계와;
상기 패터닝된 고분자 층 상에 금속을 도금하는 단계와;
상기 금속을 고분자 층으로부터 분리하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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3
제 1항에 있어서,
상기 몰드를 제작하는 데 있어서,
기판 상에 고분자 층을 형성하는 단계와;
상기 고분자 층을 패터닝하는 단계와;
상기 패터닝된 고분자 층 상에 투명한 고분자 재료를 도포하는 단계와;
상기 투명한 고분자 재료를 경화시켜 고분자 층으로부터 분리하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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제 2항에 있어서,
상기 고분자 층 상에 금속을 도금하는 방법은 전주 도금(electroforming) 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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5
제 2항에 있어서,
상기 금속은 니켈(Ni)인 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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6
제 3항에 있어서,
상기 투명한 고분자 재료는 PDMS(Polydimethylsiloxane)인 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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7
제 2항 및 3항에 있어서,
상기 고분자 층을 패터닝하는 단계에 있어서, 리소그래피(lithography) 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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8
제 1항에 있어서,
상기 고분자를 경화하는 단계에 있어서, 기판 상에 열을 가하여 경화하는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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9
제 1항에 있어서,
상기 고분자를 경화하는 단계에 있어서, 기판 상에 자외선을 조사하여 경화하는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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10
제 1항에 있어서,
상기 몰드의 패턴과 코어 층의 패턴은 요철의 음양이 서로 반대인 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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11
제 1항에 있어서,
상기 하부 클래드 층과 상부 클래드 층은 굴절률이 같은 재료를 사용하는 것을 특징으로 하는 파장 필터 제조 방법
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