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레이저 빔을 발생하는 레이저 빔 발생 장치와; 상기 레이저 빔 발생 장치로부터 발생된 레이저 빔을 집광하고 균일하게 하는 광학 시스템과; 상기 광학 시스템으로부터 입사되는 레이저 빔을 순차적으로 다른 경로로 반사시켜 레이저 빔 펄스를 분산하는 레이저 분산 장치와; 상기 레이저 분산 장치에 의해서 입사되는 레이저 빔을 통과시키는 다수의 동일한 패턴을 가지는 마스크와; 상기 레이저 빔이 조사되는 기판을 미소하게 움직이는 이동 스테이지를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 1항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치로부터 다른 경로로 순차적으로 입사되는 레이저 빔은 각 경로에 대응되는 동일한 패턴을 통과하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 1항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치는 다수의 미러로 구성되며, 각 미러가 전기적인 스위치 신호에 의해서 레이저 빔을 투과 또는 반사시키는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 1항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치는 다수의 미러로 구성되며, 각 미러는 미러 축의 둘레에 등간격으로 지지되며 미러 축의 길이에 대해서 서로 일정 간격 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 4항에 있어서, 상기 미러 축은 레이저 빔이 입사되는 축과 평행한 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 4항에 있어서, 상기 미러 축은 등속도로 회전되며 레이저 빔이 입사되는 위치와 각 미러의 중심이 동기되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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레이저 빔을 발생하는 레이저 빔 발생 장치와; 상기 레이저 빔 발생 장치로부터 발생된 레이저 빔을 집광하고 균일하게 조정하는 광학 시스템과; 상기 광학 시스템으로부터 입사되는 레이저 빔이 다수의 미러에 인가되는 전기적인 스위치 신호에 의해서 반사 또는 투과되어 레이저 빔 펄스가 분산되는 레이저 분산 장치와; 상기 분산되어 조사되는 레이저 빔을 통과시키는 동일한 패턴을 복수 개 형성하고 있는 마스크와; 상기 레이저 빔이 조사되는 기판을 미소하게 움직이는 이동 스테이지를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 7항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치에서 각 미러에 인가되는 전기적인 스위치 신호의 온/오프에 의해서 미러가 반사/투과 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 7항에 있어서, 상기 미러는 소정 각도를 가지고 평행하게 일정 간격으로 배열되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 7항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치로부터 순차적으로 분산되는 레이저 빔은 서로 다른 경로로 마스크에 입사되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 7항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치로부터 마스크로 순차적으로 입사되는 레이저 빔은 대응되는 각 패턴을 순차적으로 통과하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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레이저 빔 발생 장치로부터 레이저 빔이 펄스(pulse) 형태로로 방사되는 단계와; 상기 방사된 레이저 빔을 집광하고 균일하게 조정하여 레이저 분산 장치로 입사시키는 단계와; 상기 레이저 분산 장치로 입사되는 레이저 빔 펄스가 전기적인 스위치 신호에 의해서 분산되어 각기 다른 경로로 마스크에 조사되는 단계와; 상기 마스크로 조사되는 레이저 빔이 각 경로에 대응되는 마스크 패턴에 순차적으로 통과되는 단계와; 상기 마스크 패턴을 통과한 레이저 빔 패턴은 이동하는 기판 상에 소정 겹쳐져서 조사되는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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제 12항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치는 다수의 미러가 평행하게 일정 간격으로 배열되어 있으며 각 미러는 전기적인 스위치 신호가 온/오프(on/off)됨에 따라 레이저 빔을 반사/투과시키는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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레이저 빔을 발생하는 레이저 빔 발생 장치와; 상기 레이저 빔 발생 장치로부터 발생된 레이저 빔을 집광하고 균일하게 조정하는 광학 시스템과; 상기 광학 시스템으로부터 입사되는 레이저 빔이 미러 축에 의해서 회전되는 다수의 미러에 의해서 차례로 반사되어 레이저 빔 펄스를 순차적으로 각기 다른 경로로 분산시키는 레이저 분산 장치와; 상기 레이저 분산 장치에서 순차적으로 입사되는 레이저 빔을 통과시키는 다수의 동일한 패턴을 가지는 마스크와; 상기 레이저 빔이 조사되는 기판을 미소하게 움직이는 이동 스테이지를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 14항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치로부터 서로 다른 경로로 마스크로 입사되는 레이저 빔은 각 경로에 대응되는 패턴을 순차적으로 통과하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 14항에 있어서, 상기 다수의 미러는 미러 축의 둘레에 등간격으로 지지되며 미러 축의 길이에 대해서 각 미러가 서로 일정 간격 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 14항에 있어서, 상기 미러 축은 레이저 빔이 입사되는 축과 평행한 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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제 14항에 있어서, 상기 미러 축은 등속도로 회전되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비
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레이저 빔 발생 장치로부터 레이저 빔이 펄스(pulse) 형태로로 방사되는 단계와; 상기 방사된 레이저 빔을 집광하고 균일하게 조정하여 레이저 분산 장치로 입사시키는 단계와; 상기 레이저 분산 장치로 입사되는 레이저 빔은 미러 축에 의해서 회전되는 다수의 미러에 의해서 차례로 반사되어 레이저 빔 펄스가 순차적으로 분산되어 마스크에 조사되는 단계와; 상기 마스크에 조사되는 레이저 빔이 각 경로에 대응되는 마스크 패턴에 순차적으로 통과되는 단계와; 상기 마스크 패턴을 통과한 레이저 빔이 이동하는 기판 상에 소정 겹쳐져서 조사되는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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제 19항에 있어서, 상기 레이저 빔은 레이저 분산 장치의 고정된 위치로 입사되고, 다수의 미러는 회전되면서 레이저 빔이 입사되는 위치에 동기화되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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제 19항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치에서 분산되어 마스크로 조사되는 레이저 빔은 서로 다른 경로로 순차적으로 조사되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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제 19항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치에서 다수의 미러는 미러 축의 둘레에 등간격으로 지지되며 미러 축의 길이에 대해서 각 미러가 서로 일정 간격 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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제 19항에 있어서, 상기 레이저 분산 장치에서 다수의 미러는 미러 축의 둘레에 등간격으로 지지되며 미러 축의 길이에 대해서 각 미러가 서로 일정 간격 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장비의 응용 방법
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