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대면적 글라스 기판에, 화소 영역과 스위칭 영역을 포함하는 다수의 어레이셀 영역과, 어레이셀 영역 이외의 영역에 테스트 패턴 영역을 부분적으로 정의하는 단계와;
기판 상에 무기 절연물질을 증착하여 버퍼층을 형성하는 단계와;
상기 어레이셀 영역 내의 스위칭 영역과 테스트 패턴 영역에 섬형상의 실리콘층을 각각 형성하는 단계와;
상기 스위칭 영역과 테스트 패턴 영역에 다결정 실리콘층이 형성된 기판의 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계와;
상기 스위칭 영역에 구성된 다결정 실리콘층의 일부에 대응하는 게이트 절연막의 상부에 게이트 전극을 형성하는 단계와;
상기 게이트 전극이 형성된 기판의 전면에 층간 절연막을 형성하는 단계와;
상기 게이트 전극을 도핑 방지막으로 하여, 상기 다결정 실리콘층의 표면에 불순물 이온을 도핑하는 단계와;
상기 층간 절연막과 하부의 게이트 절연막을 식각하여, 상기 게이트전극을 중심으로 양측에 위치하는 동시에 상기 불순물이 도핑된 층간절연막을 노출하는 제 1 콘택홀과 제 2 콘택홀과, 상기 테스트 패턴 영역이 다결정 실리콘층에 대응하는 식각홀을 형성하는 단계에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 콘택홀을 통해 하부의 다결정 실리콘층은 노출되고, 상기 식각홀을 하부의 다결정 실리콘층은 제거되는 단계와;
상기 노출된 다결정 실리콘층과 각각 접촉하고 서로 이격된 소스 전극과 드레인 전극을 형성하는 단계와;
상기 소스 및 드레인 전극이 형성된 기판의 전면에 오버 코팅막을 형성한 후 패턴하여, 상기 드레인 전극을 노출하는 드레인 콘택홀을 형성하는 단계와;
상기 드레인 전극과 접촉하는 화소 전극을 형성하는 단계
를 포함하는 액정표시장치용 어레이 셀과, 테스트 패턴을 포함하는 대면적 기판 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 게이트 전극과 동시에 게이트 배선이 더욱 형성되고, 상기 소스 및 드레인 전극과 동시에 데이터 배선이 더욱 형성된 액정표시장치용 어레이 셀과, 테스트 패턴을 포함하는 대면적 기판 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 다결정 실리콘층에 도핑되는 불순물 이온은 n+ 또는 p+ 불순물 이온이인 액정표시장치용 어레이 셀과, 테스트 패턴을 포함하는 대면적 기판 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 테스트 패턴 영역에 형성되는 제 2 패턴의 면적은 상기 식각홀 보다 작은 수 0
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제 1 항에 있어서,
상기 제 1 콘택홀 및 제 2 콘택홀과 식각홀은 습식식각을 통해 형성되는 액정표시장치용 어레이셀과, 테스트 패턴을 포함하는 대면적 기판 제조방법
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기판 상에 기능성 층과, 기능성 층의 상부에 위치하는 절연막을 식각하여, 상기 기능성층을 노출하는 콘택홀을 형성하는 공정에서, 상기 콘택홀의 불량 유무를 알아보는 콘택홀의 식각 불량 판별 방법은,
상기 기능성 층과 동일한 물질로 동시에 테스트 패턴을 형성하는 단계와;
상기 테스트 패턴의 상부에 절연막을 형성하는 단계와;
상기 절연막을 패턴하여, 상기 콘택홀과 동시에 상기 테스트 패턴에 대응하여 이보다 넓은 면적의 식각홀을 형성하는 공정에서, 상기 절연막과 동일한 물질로 구성된 테스트 패턴의 하부층을 제거함으로서 상기 테스트 패턴을 기판으로부터 제거하는 단계와;
상기 테스트 패턴을 현미경으로 관찰하고, 상기 테스트 패턴이 제거된 상태를 확인 한 후, 콘택홀이 양호하다고 판단하는 단계를
포함하는 콘택홀의 식각 상태 판별 방법
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제 6 항에 있어서,
상기 콘택홀과 식각홀은 습식식각 방식을 통해 형성되는 콘택홀의 식각 상태 판별 방법
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