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산화세륨, 분산제, 물, 산화막 연마촉진제 및 질화막 연마보호제를 포함하는 것으로, 산화막 및 질화막의 동시 연마시에 산화막에 대한 연마 선택도를 높이는 CMP(chemical mechanical planarization)용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 산화세륨은 산화세륨, 분산제 및 물의 중량 총합에 대하여 1 내지 40 중량%로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 산화세륨은 a) 세륨염을 유기 용매 및 물의 혼합 용매 하에서 침전시켜 수산화세륨을 제조하는 단계; 및 b) 상기 a) 단계의 수산화세륨을 수열반응시키는 단계 를 포함하는 방법에 의하여 제조된 단결정 산화세륨 나노 분말인 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제3항에 있어서, 상기, a) 단계에서 상기 세륨염은 세륨 니트레이트 및 세륨 아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 것이고, 상기 유기 용매는 알코올계 유기용매, 글리콜계 유기용매, 아세톤, 글리세롤, 포름산 및 에틸 아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이며, 상기 유기 용매와 물의 혼합용매는 유기 용매와 물의 혼합 중량비가 0
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제3항에 있어서, 상기 a) 단계는 20 내지 80 ℃의 온도에서 알칼리 하에서 실시되고, 상기 b) 단계는 180 내지 300 ℃의 온도에서 실시되는 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 분산제는 산화세륨 입자를 기준으로 0
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제1항에 있어서, 상기 분산제는 폴리 비닐 알코올(PVA), 에틸렌 글리콜(EG), 글리세린, 폴리 에틸렌 글리콜(PEG), 폴리 프로필렌 글리콜(PPG), 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리 아크릴산, 폴리 아크릴산 암모늄염, 폴리 아크릴 말레산 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 산화막 연마촉진제는 슬러리 중량 기준 0
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제1항에 있어서, 상기 산화막 연마촉진제는 AHD(ammonium hydrogen diflouride), PF(potassium flouride), 포름산, 포름산암모늄(ammonium formate), 옥살산 및 구연산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 질화막 연마보호제는 슬러리 중량 기준 0
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제1항에 있어서, 상기 질화막 연마보호제는 폴리아크릴아미드, DL-피페콜린산(DL-Pipecolinic acid), trans-4-히드록시-L-프롤린, 알라닌, 글리신, L-프롤린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 CMP용 슬러리는 제조 초기에 산화세륨, 분산제, 물, 산화막 연마촉진제 및 질화막 연마보호제를 모두 포함하도록 제조된 일액형 슬러리인 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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제1항에 있어서, 상기 CMP용 슬러리는 산화세륨, 분산제 및 물을 포함하는 슬러리와 산화막 연마촉진제 및 질화막 연마보호제를 포함하는 첨가액을 각각 제조한 후 CMP 공정에 사용하기 직전에 혼합되는 이액형 슬러리인 것을 특징으로 하는 CMP용 슬러리
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STI CMP(Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization) 공정을 제1항 내지 제13항 중 어느 하나의 항의 CMP용 슬러리를 이용하여 1 단계로 진행하는 방법
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STI CMP(Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization) 공정을 제1항 내지 제13항 중 어느 하나의 항의 CMP용 슬러리를 이용하여 1 단계로 진행하는 방법
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