| 1 |
1
음이온성 계면활성제 및 하기 화학식 1로 표시되는 양이온성 화합물을 포함하는 혼합 계면활성제;
[화학식 1]
상기 화학식1에서, R1은 탄소수 12~18개의 직쇄상 또는 분지상의 알킬기, 탄소수 12~18개의 직쇄상 또는 분지상의 알케닐기 또는 이들의 혼합된 형태이고; R2 및 R3는 각각 탄소수 1~3개의 알킬기이고; R4는 (CH2CHOHCH2O)nH이고 n은 2~10의 정수이며; X는 할로겐 원소, 설페이트기 또는 아세테이트기이다
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,
상기 음이온성 계면활성제 및 상기 양이온성 화합물의 혼합비가 1:0
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,
상기 음이온성 계면활성제가 소듐 라우릴 설페이트(SLS), 소듐 라우릴 에테르 설페이트(SLES), 직쇄 알킬 벤젠설폰산염(LAS), 모노알킬 포스페이트(MAP), 아실 이세티오네이트(acyl isethionate, SCI), 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트(AGES), 아실 글루타메이트(acyl glutamate), 아실 타우레이트(acyl taurate) 및 지방산 금속염(fatty acid metal salt)으로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 혼합 계면활성제
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서,
상기 양이온성 화합물은 하기 화학식3의 화합물의 히드록시기에 글리시돌을 반응시켜 글리세릴기를 추가로 부가함으로써 제조되는 혼합 계면활성제:
[화학식 3]
상기 화학식3에서,
R1은 탄소수 12~18개의 직쇄상 또는 분지상의 알킬기, 탄소수 12~18개의 직쇄상 또는 분지상의 알케닐기 또는 이들의 혼합된 형태이고; R2 및 R3는 각각 탄소수 1~3개의 알킬기이고; R4는 CH2CHOHCH2OH이고, X는 할로겐 원소, 설페이트기 또는 아세테이트기이다
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 혼합 계면활성제를 포함하는 고상, 액상, 젤상 또는 페이스트(paste)상의 세제 조성물
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서, 상기 조성물이 모발용 샴푸, 린스 조성물, 주방용 세제, 피부 세정제 또는 컨디셔닝용 피부세정제인 것을 특징으로 하는 세제 조성물
|
