맞춤기술찾기

이전대상기술

소수성 기판의 표면개질에 의한 잉크젯용 고농도 수계금속 나노 졸의 미세라인 형성방법

  • 기술번호 : KST2015032863
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 소수성 기판의 표면개질에 의한 잉크젯용 고농도 수계 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 양이온 고분자 전해질 또는 비이온성 계면활성제를 사용한 적층기법(layer-by-layer)에 의하여 소수성 기판을 개질하여 친수화 시킴으로써 금속염 수용액에 고분자 전해질을 첨가하여 고분자-금속염 착체를 형성시킨 후 이를 환원제 처리하여 제조한 100 ㎚ 이하 크기의 고농도 수계 금속나노 졸을 이용하여 직접 잉크젯 기법으로 기판상에 미세라인을 형성할 수 있도록 한 소수성 기판의 표면개질에 의한 잉크젯용 고농도 수계 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법에 관한 것이다. 고분자 전해질, 금속 나노 졸, 표면개질제, 소수성 기판
Int. CL H01J 9/02 (2006.01) H01J 11/24 (2006.01)
CPC H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01)
출원번호/일자 1020040068606 (2004.08.30)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0620121-0000 (2006.08.28)
공개번호/일자 10-2006-0019907 (2006.03.06) 문서열기
공고번호/일자 (20060919) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.08.30)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 류병환 대한민국 대전광역시 서구
2 최영민 대한민국 대전광역시 서구
3 공기정 대한민국 대전광역시 유성구
4 장현주 대한민국 대전광역시 유성구
5 이정오 대한민국 대전광역시 서구
6 변종훈 대한민국 충북 청주시 흥덕구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 에스폼알파 주식회사 경기도 안산시 단원구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2004-0391145-12
2 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2004.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2004-5142194-04
3 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2004.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2004-5142195-49
4 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2004.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2004-5142196-95
5 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2004.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2004-5142197-30
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.04.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0200952-22
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.04.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0302779-42
8 의견서
Written Opinion
2006.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0302780-99
9 등록결정서
Decision to grant
2006.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0484656-05
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속염 수용액에 고분자 전해질을 첨가하여 고분자-금속염 착체를 형성시킨 후 이를 환원제로 처리하여 작고 균일한 고농도 금속나노 졸을 제조하는 과정, 소수성 기판을 아세톤으로 세정하여 상온 ∼ 60 ℃에서 건조시킨 후 표면개질제 10 ∼ 10,000 ppm 수용액에 침지한 다음 80 ∼ 120 ℃에서 건조하여 친수처리하는 과정, 및 상기 친수화된 기판에, 상기 금속 나노 졸을 잉크젯 기법으로 분사하는 과정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 금속염 수용액은 은(Ag), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au), 코발트(Co) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택된 금속이온의 질산염, 황산염, 탄산염 또는 염화물이 용해된 수용액인 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전해질은 고분자 사슬 중에 해리기(解離基)가 존재하여 물에 녹아 해리되는 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전해질은 폴리아크릴산, 폴리메타아크릴산 폴리스타이렌술폰산, 리그닌술폰산 및 이들의 염 중에서 선택된 해리기가 결합된 고분자 물질이거나, 또는 상기한 해리기가 결합된 고분자 물질과 해리기를 가지고 있지 않은 다른 수용성 고분자의 공중합체 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전해질은 금속염 1 중량부에 대하여 0
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 생성된 금속 나노입자가 100 nm 이하의 초미세 분말인 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 표면개질제는 양이온 고분자 전해질 또는 비이온성 계면활성제인 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
8 8
제 1 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 표면개질제는 폴리에틸렌이민, 폴리(소디움 스티렌설포네이트), 폴리(아크릴산), 폴리(N-비닐-2-필롤리돈), 폴리 알릴아민 히드로클로라이드), 폴리(디알릴디메틸암모늄 클로라이드), 디아조레진, 폴리머 함유 비피리듐 단위(a polymer containing bipyridinium units) 및 폴리(4-비닐피리딘) 중에서 선택된 양이온성 고분자 계면활성제 또는 폴리에틸렌 글리콜형 비이온성 계면활성제, 솔비탄 모노라우레이트, 솔비탄 모노팔미테이트, 솔비탄 모노스테아레이트, 솔비탄 모노올레이트, 솔비탄 세스퀴올레이트 및 솔비탄 트리올레이트 중에서 선택된 스판(SPAN) 시리즈, 폴리옥시에텔렌(polyoxyethelene)(20) 솔비탄 모노라우레이트, 폴리옥시에텔렌(20) 솔비탄 모노팔미테이트, 폴리옥시에텔렌(20) 솔비탄 모노스테아레이트 및 폴리옥시에텔렌(20) 솔비탄 모노올레이트 중에서 선택된 트윈(TWEEN) 시리즈, 폴리옥시에텔렌(10) 이소옥틸시클로헥실에테르, 폴리옥시에텔렌(40) 이소옥틸시클로헥실에테르, 폴리옥시에텔렌(10) 이소옥틸페닐에테르, 폴리옥시에텔렌(8) 이소옥틸페닐에테르, 및 폴리옥시에텔렌(40) 이소옥틸페닐에테르 선택된 NP 시리즈 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물 중에서 선택된 다가 알콜형 비이온성 계면활성제 중에서 선택된 표면개질제가 사용되는 것을 특징으로 하는 금속 나노 졸의 미세라인 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.