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음이온 계면활성제 및 하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 세정제 조성물;
003c#화학식 1003e#
상기 화학식 1에서 R1은 탄소수가 12 ~ 18인 직쇄상 알킬기, 분지상 알킬기, 및 알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, R2 및 R3는 서로 독립적으로 탄소수 1 ~ 3인 알킬기이며, n은 1 ~ 10이며, X는 할로겐족 원소, 설페이트기 및 아세테이트기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나임
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제1항에 있어서, 상기 음이온 계면활성제 및 4급 암모늄 양이온 계면활성제의 함량은 조성물 총 중량을 기준으로 각각 0
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 음이온 계면활성제는 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 라우릴 에테르 설페이트(SLES), 직쇄알킬벤젠설폰산염(LAS), 모노알킬 포스페이트(MAP), 아실 이세티오네이트(SCI), 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트(AGES), 아실 글루타메이트(acyl glutamate), 아실 타우레이트(acyl taurate) 및 지방산 금속염(fatty acid metal salt)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 피부 세정제 조성물
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음이온 계면활성제, 하기 화학식 1로 표시되는 4급 암모늄 양이온 계면활성제 및 피부유용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 세정제 조성물;
003c#화학식 1003e#
상기 화학식 1에서 R1은 탄소수가 12 ~ 18인 직쇄상 알킬기, 분지상 알킬기, 및 알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, R2 및 R3는 서로 독립적으로 탄소수 1 ~ 3인 알킬기이며, n은 1 ~ 10이며, X는 할로겐족 원소, 설페이트기 및 아세테이트기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나임
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제4항에 있어서, 상기 음이온 계면활성제, 4급 암모늄 양이온 계면활성제 및 피부유용제의 함량은 조성물 총 중량을 기준으로 각각 0
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제5항에 있어서, 비이온 계면활성제 0
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제6항에 있어서, 상기 비이온 계면활성제는 지방산 알카놀 아미드, 알킬 폴리 글루코사이드, 지방 알콜 에톡실레이트, 알킬페놀-폴리 에틸렌 글리콜, 알킬화-폴리에틸렌 글리콜, 지방 아민 에톡실레이트, 지방산 에톡실레이트, 폴리프로필렌 글리콜 에톡실레이트, 소르비톨 에스테르 및 폴리글리콜 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 세정제 조성물
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제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 피부 세정제 조성물은 액상, 젤상, 파우더상, 에멀젼상, 크림상, 무스폼상, 페이스트상 및 시트상으로 이루어진 군으로부터 선택된 제형으로 제조된 것을 특징으로 하는 피부 세정제 조성물
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