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정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러와 그 제조방법 및 이를 이용한 광 스캐닝 장치

  • 기술번호 : KST2015032893
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요약 본 발명은 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러와 그 제조방법 및 이를 이용한 광 스캐닝 장치에 과한 것으로 중앙부에 미러 수용부가 형성되고, 양단부에 전극 고정부를 가지며, 길이 방향으로 상기 미러 수용부의 양측으로 연장되어 형성되는 가동 전극 수용부를 포함하는 상부 기판과; 상기 상부 기판의 미러 수용부에 배치되며, 양단부가 가동 전극 수용부에 배치되는 탄성 회전 지지요소에 의해 기판에 회전 가능하게 결합되고, 상기 탄성 회전 지지요소와 인접한 위치에 평행하게 배치되는 가동 전극을 포함하는 미러 유닛과; 중앙부에 상기 상부 기판의 미러 수용부에 대응하는 미러 회동 개구가 형성되고, 상기 미러 회동 개구의 양측으로 연장되어 형성되는 고정 전극 수용부를 가지며, 또한, 상기 고정 전극 수용부에는 상기 가동 전극에 대응하는 고정 전극이 형성되고, 길이 방향을 중심으로 대칭되는 양측에 전극 고정부가 형성되는 하부 기판과; 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 배치되는 절연층을 포함한다.
Int. CL G02B 26/08 (2006.01)
CPC G02B 26/0841(2013.01) G02B 26/0841(2013.01) G02B 26/0841(2013.01) G02B 26/0841(2013.01) G02B 26/0841(2013.01) G02B 26/0841(2013.01)
출원번호/일자 1020040067176 (2004.08.25)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0619696-0000 (2006.08.28)
공개번호/일자 10-2006-0018683 (2006.03.02) 문서열기
공고번호/일자 (20060908) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.08.25)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성혁 대한민국 서울특별시 은평구
2 이영주 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 지창현 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2004-0381732-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.01.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.02.10 수리 (Accepted) 9-1-2006-0007409-31
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0143791-07
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.04.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0293900-70
6 의견서
Written Opinion
2006.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2006-0293899-11
7 등록결정서
Decision to grant
2006.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0447338-89
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
중앙부에 미러 수용부가 형성되고, 양단부에 전극 고정부를 가지며, 길이 방향으로 상기 미러 수용부의 양측으로 연장되어 형성되는 가동 전극 수용부를 포함하는 상부 기판과; 상기 상부 기판의 미러 수용부에 배치되며, 양단부가 가동 전극 수용부에 배치되는 탄성 회전 지지요소에 의해 기판에 회전 가능하게 결합되고, 상기 탄성 회전 지지요소와 인접한 위치에 평행하게 배치되는 가동 전극을 포함하는 미러 유닛과; 중앙부에 상기 상부 기판의 미러 수용부에 대응하는 미러 회동 개구가 형성되고, 상기 미러 회동 개구의 양측으로 연장되어 형성되는 고정 전극 수용부를 가지며, 또한, 상기 고정 전극 수용부에는 상기 가동 전극에 대응하는 고정 전극이 형성되고, 길이 방향을 중심으로 대칭되는 양측에 전극 고정부가 형성되는 하부 기판과; 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 배치되는 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 탄성 회전 지지요소는 토션빔인 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 미러 유닛은 강화 프레임 구조물과 상기 강화 프레임 구조물의 일 측면에 형성되는 미러로 구성되며, 상기 강화 프레임 구조물은 하나 이상의 단위 프레임 구조물이 어레이 형태로 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 미러는 균일한 두께의 박막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 가동 전극과 고정 전극은 빗살 모양으로 구성되어 부분적으로 중첩되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판은 그 미러 유닛과 인접한 중앙부 영역에 상기 전극 고정부와 독립된 전압이 인가될 수 있도록 조절 전극부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
10 10
제 3 항에 있어서, 상기 강화 프레임 구조물은 다수의 다이아몬드형 돌출부와 삼각형 홈부가 연속적으로 배열되는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 강화 프레임 구조물은 회전축을 이루는 중앙부가 단부의 영역보다 더 두꺼운 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
12 12
제 10 항에 있어서, 상기 강화 프레임 구조물은 각 돌출부가 다수개의 식각 구멍을 갖는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
13 13
중앙부에 미러 수용부가 형성되고, 양단부에 전극 고정부를 가지며, 길이 방향으로 상기 미러 수용부의 양측으로 연장되어 형성되는 가동 전극 수용부를 포함하는 상부 기판과; 상기 상부 기판의 미러 수용부에 배치되며, 하나 이상의 단위 프레임 구조물이 어레이 형태로 배치되어 구성되는 강화 프레임 구조물과 상기 강화 프레임 구조물의 어느 일 측면에 형성되는 미러를 포함하는 미러 유닛과; 상기 미러 유닛을 상부 기판에 연결하여 회전 가능하게 지지하며, 상기 가동 전극 수용부에 위치되는 탄성 회전 지지요소와; 상기 미러 유닛의 양단부에서 연장되게 구성되고, 탄성 회전 지지요소와 인접한 위치에 평행하게 배치되며, 빗살 모양으로 형성되는 가동 전극과; 중앙부에 상기 상부 기판의 미러 수용부에 대응하는 미러 회동 개구가 형성되고, 상기 미러 회동 개구의 양측으로 연장되어 형성되는 고정 전극 수용부를 가지며, 길이 방향을 중심으로 대칭되는 양측에 전극 고정부가 형성되는 하부 기판과; 상기 고정 전극 수용부에 배치되어 상기 가동 전극에 대응하도록 빗살 모양으로 형성되는 고정 전극과; 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 배치되는 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 강화 프레임 구조물은 다수의 다이아몬드형 돌출부와 삼각형 홈부가 연속적으로 배열되며, 각 돌출부에는 다수개의 식각 구멍이 형성되어 구성된 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
15 15
제 13 항에 있어서, 상기 미러는 균일한 두께의 박막으로 구성된 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러
16 16
중앙부에 미러 수용부가 형성되고, 양단부에 전극 고정부를 가지며, 길이 방향으로 상기 미러 수용부의 양측으로 연장되어 형성되는 가동 전극 수용부를 포함하는 상부 기판과; 상기 상부 기판의 미러 수용부에 배치되며, 양단부가 가동 전극 수용부에 배치되는 탄성 회전 지지요소에 의해 기판에 회전 가능하게 결합되고, 상기 탄성 회전 지지요소와 인접한 위치에 평행하게 배치되는 가동 전극을 포함하는 미러 유닛과; 중앙부에 상기 상부 기판의 미러 수용부에 대응하는 미러 회동 개구가 형성되고, 상기 미러 회동 개구의 양측으로 연장되어 형성되는 고정 전극 수용부를 가지며, 또한, 상기 고정 전극 수용부에는 상기 가동 전극에 대응하는 고정 전극이 형성되고, 길이 방향을 중심으로 대칭되는 양측에 전극 고정부가 형성되는 하부 기판과; 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 배치되는 절연층을 포함하여 구성되는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러를 다수개의 열과 행으로 배열하여 구성되는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러 어레이
17 17
중앙부에 미러 수용부가 형성되고, 양단부에 전극 고정부를 가지며, 길이 방향으로 상기 미러 수용부의 양측으로 연장되어 형성되는 가동 전극 수용부를 포함하는 상부 기판과; 상기 상부 기판의 미러 수용부에 배치되며, 양단부가 가동 전극 수용부에 배치되는 탄성 회전 지지요소에 의해 기판에 회전 가능하게 결합되고, 상기 탄성 회전 지지요소와 인접한 위치에 평행하게 배치되는 가동 전극을 포함하는 미러 유닛과; 중앙부에 상기 상부 기판의 미러 수용부에 대응하는 미러 회동 개구가 형성되고, 상기 미러 회동 개구의 양측으로 연장되어 형성되는 고정 전극 수용부를 가지며, 또한, 상기 고정 전극 수용부에는 상기 가동 전극에 대응하는 고정 전극이 형성되고, 길이 방향을 중심으로 대칭되는 양측에 전극 고정부가 형성되는 하부 기판과; 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 배치되는 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러를 스캐닝부에 설치하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광 스캐닝 장치
18 18
제 1 기판의 상부 면에 식각 마스크 1 및 2를 형성시키고, 하부 면에 식각 마스크 3을 형성시키는 단계와; 상기 기판의 상부 면에 형성된 식각 마스크 1 및 2를 통해 기판의 상부 면을 소정의 깊이만큼 비등방성 식각하여 미러 회동 개구와 고정 전극 수용부 및 고정 전극의 일부를 형성시킨 후 상기 마스크 2를 제거하는 단계와; 상기 제 1 기판의 상부 면에 다른 제 2 기판을 접합하여 절연층을 형성시키는 단계와; 상기 제 1 기판의 하부 면에 형성된 식각 마스크 3을 통해 기판의 하부 면을 소정의 깊이 만큼 비등방석 식각하여 미러 회동 개구와 고정 전극 수용부 및 고정 전극을 완전히 형성시키는 단계와; 상기 제 2 기판의 상부 면에 식각 마스크용 박막 4 및 5를 형성한 후 상기 식각 마스크 4 및 5가 형성된 면을 상부 면을 식각 마스크 4 및 5를 통해 소정의 깊이로 비등방성 식각하여 미러 수용부와 가동 전극 수용부 그리고 강화 프레임 구조물과 가동 전극 및 탄성 회전 지지요소의 일부를 형성시키되, 상기 가동 전극과 탄성 회전 지지요소는 평행한 상태로 동일 방향에 인접하게 배치되도록 형성시키는 단계와; 상기 식각 마스크 5를 제거하고 식각 마스크 4를 사용하여 상부 기판을 소정의 깊이만큼 더 비등방성 식각하여 미러 수용부와 가동 전극 수용부 그리고 강화 프레임 구조물과 가동 전극 및 탄성 지지요소를 완전히 형성시키는 단계와; 상기 식각 마스크 1, 3 및 4와 상기 두 기판의 내측부 접합면을 제거하여 고정 전극을 제 1 기판의 요소들로부터 분리시키는 단계와; 상기 강화프레임 구조물의 하부면에 미러를 형성시키는 단계를 통하여 제1항의 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러를 제조하는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러 제조방법
19 19
제 18 항에 있어서, 상기 강화 프레임 구조물의 상부면에는 다수개의 식각 구멍이 더 형성되며, 상기 제 2 기판은 전극 고정부와 분리되는 상태로 조절 전극부가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러 제조방법
20 19
제 18 항에 있어서, 상기 강화 프레임 구조물의 상부면에는 다수개의 식각 구멍이 더 형성되며, 상기 제 2 기판은 전극 고정부와 분리되는 상태로 조절 전극부가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 정전력 구동 스캐닝 마이크로 미러 제조방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP01640781 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP01640781 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP04771059 JP 일본 FAMILY
4 JP18079078 JP 일본 FAMILY
5 KR100636348 KR 대한민국 FAMILY
6 TW287393 TW 대만 FAMILY
7 US07453617 US 미국 FAMILY
8 US20060039060 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 CN100414954 CN 중국 DOCDBFAMILY
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4 JP4771059 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 TW200608768 TW 대만 DOCDBFAMILY
6 TW287393 TW 대만 DOCDBFAMILY
7 TWI287393 TW 대만 DOCDBFAMILY
8 US2006039060 US 미국 DOCDBFAMILY
9 US7453617 US 미국 DOCDBFAMILY
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