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박막 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015034070
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요약 본 발명은 박막 형성 방법에 관한 것으로, 본 발명의 선택적 박막 형성 공정은 박막재료액을 준비하는 단계; 목적하는 박막의 패턴에 따라 박막이 형성되는 제 1 영역과 박막이 형성되지 않는 제 2 영역을 갖도록 기판의 표면을 처리하는 단계; 상기 제 2 영역 상에 액상 격벽을 형성하는 단계; 상기 액상 격벽에 둘러싸인 상기 제 1 영역 상에 상기 박막재료액을 도포하는 단계; 및 상기 박막재료액 및 상기 액상격벽이 도포된 기판을 건조하는 단계를 포함하여 구성된다. 박막, 나노, 액상 격벽
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) G02F 1/136 (2006.01)
CPC H01L 21/02288(2013.01) H01L 21/02288(2013.01) H01L 21/02288(2013.01)
출원번호/일자 1020040087485 (2004.10.29)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1086162-0000 (2011.11.16)
공개번호/일자 10-2006-0038263 (2006.05.03) 문서열기
공고번호/일자 (20111125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.07)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 채기성 대한민국 인천광역시 연수구
2 김진욱 대한민국 경기도 의왕시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0501335-83
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0615257-98
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0082337-90
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0189256-74
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0189258-65
8 등록결정서
Decision to grant
2011.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0525437-71
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
나노 박막의 패턴에 따라 볼록부와 오목부의 요철을 구비하여 형성된 PDMS(polydimethylsiloxane)몰드를 이용하여 박막이 형성되는 제 1 영역과 박막이 형성되지 않는 제 2 영역을 갖도록 기판의 표면을 처리하는 단계; 상기 기판 상에 잉크젯 방식 또는 스핀 코팅 방식으로 박막형성 재료에 대하여 비친화적인 친수성 용매를 분사하여 상기 제 2 영역 상에 액상 격벽을 형성하는 단계; 상기 액상 격벽에 둘러싸인 상기 제 1 영역 상에 박막재료액을 도포하는 단계; 및 상기 박막재료액 및 상기 액상격벽이 도포된 기판을 건조하는 단계를 포함하여 구성되는 선택적 박막 형성 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 박막재료액은 나노 와이어, 나노 튜브 및 나노 파우더 중에서 선택되는 어느 하나로 이루어지는 박막 형성 재료를 용매에 균일하게 분산시킨 것임을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 용매는 상기 박막 형성 재료에 대해 친화성인 소수성 용매임을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 용매는 디이미도에탄(diimidoethane)임을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 기판의 표면을 처리하는 단계는 상기 PDMS(polydimethylsiloxane) 몰드를 이용하여 미세 접촉 인쇄(micro-contact printing) 방식으로 실시하는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
6 6
삭제
7 7
제 5 항에 있어서, 상기 미세 접촉 인쇄 방식은 상기 PDMS 몰드에 상기 박막재료액에 대한 친화성 액상조성물을 도포하는 단계를 포함하는 선택적 박막 형성 방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 PDMS 몰드의 볼록부에 도포된 상기 액상조성물을 상기 기판 상의 제 1 영역에 전가하는 단계를 포함하는 선택적 박막 형성 방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 제 1 영역 상에 전가된 액상조성물의 용매를 건조시킴으로써, 상기 기판 상에 표면처리 패턴을 얻는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
10 10
제 7 항에 있어서, 상기 액상조성물은 옥타데실트리클로로실레인(octa-decyltriclorosilne, OTS) 또는 알콕시 실레인(alkoxy silane) 화합물 또는 씨올(thiol) 화합물을 상기 박막재료액에 친화적인 소수성 헥산(hexane) 등의 유기 용매에 녹여 형성함을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
11 11
제 5 항에 있어서, 상기 제 2 영역에는 상기 박막재료액에 대하여 비친화성인 친수성기가 도입되는 것을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
12 12
삭제
13 13
제 1 항에 있어서, 상기 친수성 용매는 물임을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
14 14
제 1 항에 있어서, 상기 나노 박막재료를 도포하는 단계는 잉크젯 방식으로 이루어지는 단계임을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
15 15
제 1 항에 있어서, 상기 기판을 건조하는 단계는 상기 박막재료액을 구성하는 용매의 끓는점보다 낮은 온도에서 이루어짐을 특징으로 하는 선택적 박막 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.