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평판표시소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015034126
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요약 본 발명은 평판표시소자의 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 박막을 형성하는 단계; 상기 박막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트 상에 투과부와 차단부만을 포함한 마스크를 정렬하는 단계; 상기 포토레지스트에 대하여 제1 노광 공정을 실시하여 상기 마스크의 투과부를 통해 노출된 상기 포토레지스트의 제1 영역을 노광시키는 단계; 상기 마스크 및 상기 기판 중 어느 하나를 수평방향으로 이동시키는 단계; 상기 포토레지스트에 대하여 제2 노광 공정을 실시하여 상기 마스크의 투과부를 통해 노출된 상기 포토레지스트에서 상기 제1 영역과 제2 영역 만큼 중첩된 제3 영역을 노광시키는 단계; 상기 포토레지스트에 대하여 현상 공정을 실시하여 상기 제1 및 제2 노광 공정에 의해 상기 포토레지스트에서 노광된 부분을 제거하여 상기 박막 상에 단차를 갖는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴의 상기 제2 영역을 통해 노출된 상기 박막의 일부만을 식각하여 박막패턴을 상기 기판 상에 형성하는 단계를 포함한다. 상기 제2 영역은 제1 및 제2 노광 공정을 통한 반복 노광에 의해 상기 포토레지스트 두께 만큼 노광되고, 상기 제2 부분을 제외한 상기 제1 및 제3 영역은 상기 포토레지스트 두께의 절반 만큼 노광된다.
Int. CL H01J 9/02 (2006.01) G02F 1/13 (2006.01) H01J 11/10 (2006.01) H01J 1/30 (2006.01)
CPC H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01) H01J 9/02(2013.01)
출원번호/일자 1020040094219 (2004.11.17)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1043679-0000 (2011.06.16)
공개번호/일자 10-2006-0053776 (2006.05.22) 문서열기
공고번호/일자 (20110622) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.19)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 손현호 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 조흥렬 대한민국 경기 수원시 권선구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인로얄 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로 ***, *층(서초동,서일빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.11.17 수리 (Accepted) 1-1-2004-0534278-30
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2007-0657319-24
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2009-0639702-66
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0124445-97
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.04.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0321039-37
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0321042-75
9 등록결정서
Decision to grant
2011.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0288650-41
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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박막패턴들을 포함하는 평판표시소자의 제조방법에 있어서, 기판 상에 박막을 형성하는 단계; 상기 박막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트 상에 투과부와 차단부만을 포함한 마스크를 정렬하는 단계; 상기 포토레지스트에 대하여 제1 노광 공정을 실시하여 상기 마스크의 투과부를 통해 노출된 상기 포토레지스트의 제1 영역을 노광시키는 단계; 상기 마스크 및 상기 기판 중 어느 하나를 수평방향으로 이동시키는 단계; 상기 포토레지스트에 대하여 제2 노광 공정을 실시하여 상기 마스크의 투과부를 통해 노출된 상기 포토레지스트에서 상기 제1 영역과 제2 영역 만큼 중첩된 제3 영역을 노광시키는 단계; 상기 포토레지스트에 대하여 현상 공정을 실시하여 상기 제1 및 제2 노광 공정에 의해 상기 포토레지스트에서 노광된 부분을 제거하여 상기 박막 상에 단차를 갖는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴의 상기 제2 영역을 통해 노출된 상기 박막의 일부만을 식각하여 박막패턴을 상기 기판 상에 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제2 영역은 제1 및 제2 노광 공정을 통한 반복 노광에 의해 상기 포토레지스트 두께 만큼 노광되고, 상기 제2 부분을 제외한 상기 제1 및 제3 영역은 상기 포토레지스트 두께의 절반 만큼 노광되는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 박막패턴들 간의 간격은 1㎛~2㎛ 사이의 간격인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 박막패턴의 선폭은 1㎛~2㎛ 사이의 선폭인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 평판표시소자는, 액정표시소자(LCD), 전계 방출 표시소자(FED), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 및 전계발광소자(EL) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.