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신규한 술폰화 공중합체 및 이를 이용한 전해질막

  • 기술번호 : KST2015034326
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요약 본 발명은 신규한 술폰화 공중합체 및 이를 이용한 전해질막에 관한 것으로, 특히 벤족사졸을 함유하는 화학식 1로 표시되는 반복단위로 이루어지는 술폰화 공중합체, 상기 술폰화 공중합체에 강산을 도핑한 술폰산 공중합체 전해질막, 및 상기 술폰화 공중합체와 전도성 무기물을 블랜딩한 유무기 복합 전해질막에 관한 것이다.본 발명에 따른 전해질막은 100∼200 ℃의 고온에서 사용가능하며, 높은 온도에서 향상된 수소이온전도도를 가져 고온용 연료전지의 이온교환막으로 사용가능한 효과가 있다. 폴리벤족사졸, 공중합체, 전해질막, 연료전지, 이온교환막, 전도성 무기물
Int. CL C08G 61/12 (2006.01.01) C08G 75/18 (2006.01.01) C08J 5/22 (2006.01.01) H01M 8/10 (2016.01.01) H01M 4/60 (2006.01.01) C08L 79/04 (2006.01.01) C08G 73/18 (2006.01.01)
CPC C08G 61/12(2013.01) C08G 61/12(2013.01) C08G 61/12(2013.01) C08G 61/12(2013.01) C08G 61/12(2013.01) C08G 61/12(2013.01) C08G 61/12(2013.01)
출원번호/일자 1020040094880 (2004.11.19)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-0727216-0000 (2007.06.04)
공개번호/일자 10-2006-0055742 (2006.05.24) 문서열기
공고번호/일자 (20070613) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.01.06)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한동완 대한민국 대전광역시 유성구
2 이봉근 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조인제 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길**, *층(역삼동)(특허법인뉴코리아)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.11.19 수리 (Accepted) 1-1-2004-0538143-79
2 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.03.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0152126-95
3 출원심사청구서
Request for Examination
2006.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2006-0011088-64
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.08.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-0019818-11
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.09.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.10.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0065955-97
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.12.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0731576-78
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.01.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0081998-06
9 의견서
Written Opinion
2007.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0081975-56
10 등록결정서
Decision to grant
2007.05.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0246453-52
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
벤족사졸을 함유하는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위로 이루어지는 것을 특징으로 하는 술폰화 공중합체: [화학식 1] 상기 화학식 1의 식에서, Ar은 페닐린(phenylene), 바이페닐린(biphenylene), 또는 테르페닐린(terphenylene)이고, Y1과 Y2는 각각 독립적으로 직접 결합(direct bond), -O-, -CO-, 또는 -SO2-이고, n은 0 내지 분자량이 최대 10,000을 갖도록 하는 범위의 정수이고, R은 (여기서, Z'는 직접 결합(direct bond), -SO2-, -C(CF3)2-, -C(CCH3)2-, -CH2-, , , , 또는 임), , 또는 이고, -O-기는 서로 파라-파라(para-para), 메타-메타(meta-meta), 또는 파라-메타(para-meta) 위치에 존재하고, Z는 -S-, -S(O)-, -S(O)2-, -C(O)-, 또는 -P(O)(C6H5)-이고, M은 Na, K, 또는 수소이고, r/m+r은 0
2 2
M이 Na 또는 K인 제1항 기재의 벤족사졸을 함유하는 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위로 이루어지는 술폰화 공중합체를 용매에 용해시킨 후, 유리판에 캐스팅하여 제조되는 것을 특징으로 하는 술폰화 공중합체 전해질막
3 3
제2항 기재의 술폰화 공중합체 전해질막에 염산 또는 황산 용액을 가하여 술폰산염을 술폰산으로 치환하여 제조되는 것을 특징으로 하는 수소처리된 술폰화 공중합체 전해질막
4 4
제3항에 있어서, 상기 염산 또는 황산 용액이 술폰화 공중합체 전해질막에 0
5 5
제3항 기재의 수소처리된 술폰화 공중합체 전해질막에 강산 용액을 도핑하여 제조되는 강산이 도핑된 술폰화 공중합체 전해질막
6 6
제5항에 있어서, 상기 강산이 인산, 황산, 또는 염산인 것을 특징으로 하는 강산이 도핑된 술폰화 공중합체 전해질막
7 7
제5항에 있어서, 상기 강산이 수소처리된 술폰화 공중합체에 적어도 10 몰%로 도핑되는 것을 특징으로 하는 강산이 도핑된 술폰화 공중합체 전해질막
8 8
제5항 내지 제7항 중 어느 한항에 있어서, 상기 강산이 도핑된 술폰화 공중합체 전해질막이 적어도 100 ℃의 온도에서 수소이온을 전도할 수 있는 고온용 수소이온 전해질막인 것을 특징으로 하는 강산이 도핑된 술폰화 공중합체 전해질막
9 9
M이 Na 또는 K인 제1항 기재의 화학식 1로 표시되는 벤족사졸을 함유하는 화학식 1로 표시되는 반복단위로 이루어지는 술폰화 공중합체 및 전도성 무기물을 포함하는 유무기 복합 전해질막
10 10
제9항에 있어서, 상기 전도성 무기물이 지르코늄 인산염(ZrP), 인텅스텐산(PWA), 및 인몰리브덴산(phosphomolybdic acid)으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 무기 헤테로 다중산인 것을 특징으로 하는 유무기 복합 전해질막
11 11
제9항에 있어서, 상기 전도성 무기물이 벤족사졸을 함유하는 술폰화 공중합체 100 중량부에 대하여 5 내지 60 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 전해질막
12 12
제9항에 있어서, 상기 M이 Na 또는 K인 벤족사졸을 함유하는 화학식 1로 표시되는 반복단위로 이루어지는 술폰화 공중합체 및 전도성 무기물을 용매에 용해시킨 후, 유리판에 캐스팅하여 제조되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 전해질막
13 13
제12항 기재의 유무기 복합 전해질막에 염산 또는 황산 용액을 가하여 술폰산염을 술폰산으로 치환하여 제조되는 것을 특징으로 하는 수소처리된 유무기 복합 전해질막
14 14
제13항 기재의 수소처리된 유무기 복합 전해질막에 강산 용액을 도핑하여 제조되는 강산이 도핑된 유무기 복합 전해질막
15 15
제9항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유무기 복합 전해질막이 적어도 100 ℃의 온도에서 수소이온을 전도할 수 있는 고온용 수소이온 전해질막인 것을 특징으로 하는 유무기 복합 전해질막
16 16
제5항 또는 제14항 기재의 전해질막이 적용되는 것을 특징으로 하는 고온용 연료전지
17 17
제16항에 있어서, 상기 고온용 연료전지가 고분자 전해질 연료전지 또는 직접 메탄올 연료전지인 것을 특징으로 하는 고온용 연료전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.