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기판 상부에 N타입 반도체층이 형성되어 있고; 상기 N타입 반도체층 상부에 일부가 제거된 개구 패턴을 갖는 마스크층이 형성되어 있고; 상기 개구 패턴 내부에 활성층이 형성되어 있고; 상기 활성층 상부에 P타입 반도체층이 형성되어 있고; 상기 P타입 반도체층에서 상기 N타입 반도체층의 일부까지 메사(Mesa)식각되어 있고; 상기 P타입 반도체층 상부에 투명전극이 형성되어 있고; 상기 투명전극 상부에 P전극과 상기 메사식각된 N타입 반도체층 상부에 N전극이 형성되어 이루어진 고출력 발광 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 활성층 상부에 형성된 P타입 반도체층은, 상기 활성층 상부 및 상기 마스크층 일부 상부에만 국부적으로 성장되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 기판은, 사파이어(Sapphire), 실리콘 카바이드(SiC), ZnO, Si, GaAs와 GaN 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 반도체층은, GaN층인 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 마스크층은, SiO2 또는 SixNy로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 개구 패턴은, 스트라이프(Stripe) 형상의 복수개의 개구들 또는 상호 이격된 복수개의 개구들로 패터닝되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
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기판 상부에 N타입 반도체층을 형성하는 제 1 단계와; 상기 N타입 반도체층 상부에 마스크층을 형성하고, 상기 마스크층의 일부를 선택적으로 식각하여 상기 N타입 반도체층을 노출시키는 개구 패턴을 만드는 제 2 단계와; 상기 개구 패턴으로 노출된 N타입 반도체층 상부에 활성층을 성장시켜, 상기 개구 패턴의 내부를 활성층으로 채우는 제 3 단계와; 상기 활성층 상부에서 P타입 반도체층을 성장시키는 제 4 단계와; 상기 P타입 반도체층에서 상기 N타입 반도체층의 일부까지 메사(Mesa) 식각한 후, 상기 P타입 반도체층 상부에 투명전극을 형성하는 제 5 단계와; 상기 투명전극 상부에 P전극을 형성하고, 상기 메사 식각된 N타입 반도체층 상부에 N전극을 형성하는 제 6 단계로 이루어진 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 제 4 단계에서 P타입 반도체층은, 상기 활성층 상부 및 상기 마스크층 일부 상부에만 국부적으로 성장시키는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 제 1 단계는, 상기 기판 상부에 버퍼층을 형성하고, 상기 버퍼층 상부에 N타입 반도체층을 형성하는것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
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10
제 7 항에 있어서, 상기 마스크층은, SiO2 또는 SixNy로 형성하고, 상기 개구 패턴은, 스트라이프(Stripe) 형상의 복수개의 개구들 또는 상호 이격된 복수개의 개구들로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
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