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고출력 발광 다이오드 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015034675
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요약 본 발명은 고출력 발광 다이오드 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 마스크층에 형성된 개구 패턴 내부에만 국부적으로 활성층을 형성시켜, 이 국부적인 활성층에 전류의 흐름을 집중시킴으로써 광출력을 향상시킬 수 있는 우수한 효과가 있다. 또한, 열을 국부적인 활성층에서만 발생시킴으로써, 열발생 영역을 작게하여 효율적으로 열을 방출시킬 수 있는 효과가 있다. 더불어, 마스크층으로 전달되는 전위(Dislocation)를 차단시켜, 결함을 줄일 수 있어 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 마스크, 활성층, 발광다이오드, 전위, 열, 방출
Int. CL H01L 33/04 (2014.01)
CPC H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01)
출원번호/일자 1020040103985 (2004.12.10)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0609972-0000 (2006.07.31)
공개번호/일자 10-2006-0065202 (2006.06.14) 문서열기
공고번호/일자 (20060808) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.12.10)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신종언 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2004-0581972-00
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.03.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.04.14 수리 (Accepted) 9-1-2006-0024712-15
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0236394-32
5 의견서
Written Opinion
2006.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0425988-84
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.06.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0426002-71
7 대리인해임신고서
Report on Dismissal of Agent
2006.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0425538-52
8 등록결정서
Decision to grant
2006.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0430440-41
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
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번호 청구항
1 1
기판 상부에 N타입 반도체층이 형성되어 있고; 상기 N타입 반도체층 상부에 일부가 제거된 개구 패턴을 갖는 마스크층이 형성되어 있고; 상기 개구 패턴 내부에 활성층이 형성되어 있고; 상기 활성층 상부에 P타입 반도체층이 형성되어 있고; 상기 P타입 반도체층에서 상기 N타입 반도체층의 일부까지 메사(Mesa)식각되어 있고; 상기 P타입 반도체층 상부에 투명전극이 형성되어 있고; 상기 투명전극 상부에 P전극과 상기 메사식각된 N타입 반도체층 상부에 N전극이 형성되어 이루어진 고출력 발광 다이오드
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 활성층 상부에 형성된 P타입 반도체층은, 상기 활성층 상부 및 상기 마스크층 일부 상부에만 국부적으로 성장되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 기판은, 사파이어(Sapphire), 실리콘 카바이드(SiC), ZnO, Si, GaAs와 GaN 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 반도체층은, GaN층인 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 마스크층은, SiO2 또는 SixNy로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 개구 패턴은, 스트라이프(Stripe) 형상의 복수개의 개구들 또는 상호 이격된 복수개의 개구들로 패터닝되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드
7 7
기판 상부에 N타입 반도체층을 형성하는 제 1 단계와; 상기 N타입 반도체층 상부에 마스크층을 형성하고, 상기 마스크층의 일부를 선택적으로 식각하여 상기 N타입 반도체층을 노출시키는 개구 패턴을 만드는 제 2 단계와; 상기 개구 패턴으로 노출된 N타입 반도체층 상부에 활성층을 성장시켜, 상기 개구 패턴의 내부를 활성층으로 채우는 제 3 단계와; 상기 활성층 상부에서 P타입 반도체층을 성장시키는 제 4 단계와; 상기 P타입 반도체층에서 상기 N타입 반도체층의 일부까지 메사(Mesa) 식각한 후, 상기 P타입 반도체층 상부에 투명전극을 형성하는 제 5 단계와; 상기 투명전극 상부에 P전극을 형성하고, 상기 메사 식각된 N타입 반도체층 상부에 N전극을 형성하는 제 6 단계로 이루어진 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 제 4 단계에서 P타입 반도체층은, 상기 활성층 상부 및 상기 마스크층 일부 상부에만 국부적으로 성장시키는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
9 9
제 7 항에 있어서, 상기 제 1 단계는, 상기 기판 상부에 버퍼층을 형성하고, 상기 버퍼층 상부에 N타입 반도체층을 형성하는것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
10 10
제 7 항에 있어서, 상기 마스크층은, SiO2 또는 SixNy로 형성하고, 상기 개구 패턴은, 스트라이프(Stripe) 형상의 복수개의 개구들 또는 상호 이격된 복수개의 개구들로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 다이오드의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.