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가스 유입부와 다수의 가스 분출공이 있는 가스 배출부 본체와, 상기 가스 배출부 내부에 설치되는 히터, 및 상기 히터를 상기 가스 배출부 내부에 고정시키는 고정수단을 포함하여 구성되는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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제1항에 있어서, 상기 가스 배출부는 가스가 유동하는 제1영역과, 히터가 내장되는 제2영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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제2항에 있어서, 상기 고정수단은 상기 제2영역에서 히터 상부에 설치되는 고정플레이트와, 상기 고정플레이트를 상기 히터에 밀착시키는 조절수단을 포함하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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제1항에 있어서, 상기 가스 배출부 본체는 열전도성 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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제1항에 있어서, 상기 가스 배출부는 다수의 분출공이 있는 제1가스분사 플레이트 및 제2가스분사 플레이트를 포함하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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가스 유입부가 있는 가스 배출부 본체와, 상기 가스 배출부 본체 내부에 설치되며 다수의 분출공이 있는 제1가스분사 플레이트와, 상기 제1가스분사 플레이트 하부에 설치되어 상기 가스 배출부 본체의 하부면을 구성하며, 다수의 분출공이 있는 제2가스분사 플레이트를 포함하여 구성되는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 형성 위치가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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8
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 수가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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9
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 크기가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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9
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 크기가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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