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플라즈마 중합장치의 가스 배출부

  • 기술번호 : KST2015035071
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요약 본 발명은 플라즈마 중합장치의 가스 배출부에 관한 것으로, 가스 유입부와 다수의 가스 분출공이 있는 가스 배출부 본체와, 상기 가스 배출부 내부에 설치되는 히터, 및 상기 히터를 상기 가스 배출부 내부에 고정시키는 고정수단을 포함하여 구성되는 가스 배출부를 제공한다. 또한, 본 발명의 가스 배출부는 가스 배출부 본체 내부에 설치되며 다수의 분출공이 있는 제1가스분사 플레이트와, 상기 제1가스분사 플레이트 하부에 설치되어 상기 가스 배출부 본체의 하부면을 구성하며, 다수의 분출공이 있는 제2가스분사 플레이트를 포함할 수 있다. 플라즈마 중합, 반응 가스, 가스 배출부, 응축, 균일 분산
Int. CL B01J 8/22 (2006.01) C08F 2/02 (2006.01) C08F 2/46 (2006.01)
CPC B01J 8/22(2013.01) B01J 8/22(2013.01) B01J 8/22(2013.01)
출원번호/일자 1020040113226 (2004.12.27)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0595764-0000 (2006.06.23)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20060630) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.12.27)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전현우 대한민국 경상남도 창원시 가
2 정창일 대한민국 부산 해운대구
3 정영만 대한민국 경상남도 김해시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2004-0617871-75
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.02.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.03.20 수리 (Accepted) 9-1-2006-0019512-62
4 등록결정서
Decision to grant
2006.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0234158-27
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
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번호 청구항
1 1
가스 유입부와 다수의 가스 분출공이 있는 가스 배출부 본체와, 상기 가스 배출부 내부에 설치되는 히터, 및 상기 히터를 상기 가스 배출부 내부에 고정시키는 고정수단을 포함하여 구성되는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
2 2
제1항에 있어서, 상기 가스 배출부는 가스가 유동하는 제1영역과, 히터가 내장되는 제2영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
3 3
제2항에 있어서, 상기 고정수단은 상기 제2영역에서 히터 상부에 설치되는 고정플레이트와, 상기 고정플레이트를 상기 히터에 밀착시키는 조절수단을 포함하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
4 4
제1항에 있어서, 상기 가스 배출부 본체는 열전도성 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
5 5
제1항에 있어서, 상기 가스 배출부는 다수의 분출공이 있는 제1가스분사 플레이트 및 제2가스분사 플레이트를 포함하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
6 6
가스 유입부가 있는 가스 배출부 본체와, 상기 가스 배출부 본체 내부에 설치되며 다수의 분출공이 있는 제1가스분사 플레이트와, 상기 제1가스분사 플레이트 하부에 설치되어 상기 가스 배출부 본체의 하부면을 구성하며, 다수의 분출공이 있는 제2가스분사 플레이트를 포함하여 구성되는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
7 7
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 형성 위치가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
8 8
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 수가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
9 9
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 크기가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
10 9
제6항에 있어서, 상기 제2가스분사 플레이트와 제1가스분사 플레이트는 분출공의 크기가 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합장치의 가스 배출부
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패밀리정보가 없습니다
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