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전도성 금속 도금 폴리이미드 기판에 있어서, 표면의 이미드 링이 에칭되어 개열된 폴리이미드막층; 상기 폴리이미드막에 흡착된 Pd(팔라듐);상기 Pd(팔라듐)가 흡착된 폴리이미드막 상에 무전해 도금으로 그 두께가 0보다 크고 0
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제 1 항에 있어서, 상기 폴리이미드막층이 KOH, 에틸렌글리콜 및 KOH 혼합 용액, 또는 무수크롬산 및 황산 혼합 용액으로 에칭된 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 금속 박막은 금, 니켈 또는 구리 중 하나 이상을 포함하는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 제 2 전도성 금속 박막은 금, 또는 구리 중 하나 이상을 포함하는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 제 2 전도성 금속 박막층의 두께가 0
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전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법에 있어서, a) 상기 폴리이미드막 표면을 KOH, 에틸렌글리콜 및 KOH 혼합 용액, 또는 무수크롬산 및 황산 혼합용액으로 에칭하는 단계;b) 상기 에칭된 폴리이미드막 표면을 커플링제로 커플링하는 단계;c) 상기 폴리이미드막에 Pd(팔라듐)를 포함한 촉매를 흡착시키는 단계;d) 상기 촉매가 흡착된 폴리이미드막에 전류를 인가함 없이 그 두께가 0보다크고 0
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제 8 항에 있어서, 상기 각 단계중 하나 이상의 단계에서, 폴리이미드막 전체에 초음파를 가하여 연속적인 반응을 유도하는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 a) 단계에 있어서, 상기 폴리이미드막을 KOH, 에틸렌글리콜 및 KOH 혼합 용액, 또는 무수크롬산 및 황산 혼합용액에 45 내지 50℃에서 5 ~ 7 분간 침지시키는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 a) 단계에 있어서, 상기 폴리이미드막의 표면의 이미드기가 아미드기 또는 카르복실기로 변환된 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 d) 단계에 있어서, 사용되는 도금 용액이 EDTA 수용액, 가성소다 수용액, 포르말린 수용액 및 황산동 수용액을 혼합하여 제조된 황산동 도금 용액, 또는 차아인산나트륨, 구연산나트륨, 암모니아 및 6수 황산니켈 수용액을 혼합하여 제조된 황산니켈 도금 용액인 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 12 항에 있어서, 상기 황산동 도금 용액을 사용하는 경우, 촉매가 부가된 폴리이미드막을 황산동 도금 용액에 38 내지 42℃ 의 온도에서 25 내지 30분간 침지키는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 12 항에 있어서, 상기 황산니켈 도금 용액을 사용하는 경우, 촉매가 부가된 폴리이미드막을 황산니켈 도금 용액에 35 내지 40 ℃의 온도에서 2 분간 침지시키는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 금속 박막이 금, 니켈 또는 구리로 형성되는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제 2 전도성 금속 박막이 금, 또는 구리로 형성되는 전도성 금속 도금 폴리이미드 기판 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제 2 전도성 금속 박막층의 형성 두께가 0
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