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플립칩 본딩용 발광 다이오드

  • 기술번호 : KST2015035748
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요약 본 발명은 플립칩 본딩용 발광 다이오드에 관한 것으로, P타입 반도체층 상부에 CTEL(Current Transport Enhanced Layer)를 형성하여 전류 흐름을 원활하게 할 수 있고, 열처리 공정에도 접합상태를 유지할 수 있는 효과가 있다. 또한, 상기 CTEL 상부에 투명 전도 산화막과 반사막을 순차적으로 적층하여, 소자 제조 공정의 열처리 및 소자 동작 중에 발생되는 열에 의해 금속막들 사이에서 야기되는 확산 현상을 제거하여, 높은 광출력을 유지할 수 있는 효과가 있다. 발광다이오드, 광출력, 반사, 투명, 산화막, 열처리
Int. CL H01L 33/14 (2014.01)
CPC H01L 33/14(2013.01) H01L 33/14(2013.01) H01L 33/14(2013.01) H01L 33/14(2013.01) H01L 33/14(2013.01) H01L 33/14(2013.01)
출원번호/일자 1020050005560 (2005.01.20)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0619420-0000 (2006.08.25)
공개번호/일자 10-2006-0084754 (2006.07.25) 문서열기
공고번호/일자 (20060911) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.01.20)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장준호 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 하준석 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
2 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2005-0034030-76
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.04.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.05.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0033218-72
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0302999-26
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.07.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0531991-20
6 대리인해임신고서
Report on Dismissal of Agent
2006.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2006-0530165-66
7 의견서
Written Opinion
2006.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2006-0531962-17
8 등록결정서
Decision to grant
2006.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0480678-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상부에 N-GaN층, 활성층과 P-GaN층이 순차적으로 적층되어 있고; 상기 P-GaN층에서 N-GaN층의 일부까지 메사(Mesa) 식각되어 있고; 상기 P-GaN층 상부에 GaN을 포함하며, 캐리어 이동을 향상시켜 전류 흐름을 원활하게 하기 위해 상기 P-GaN층의 일함수보다 작고, 투명 전도 산화막의 일함수보다 큰 일함수를 갖는 CTEL(Current Transport Enhanced Layer)와; 상기 CTEL 상부에 형성된 투명 전도 산화막(Transparent Conduction Oxide, TCO)과; 상기 투명 전도 산화막 상부에 형성된 반사막을 포함하여 이루어진 플립칩 본딩용 발광 다이오드
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 투명 전도 산화막의 일함수는 4
4 4
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 CTEL은, InGaN층 또는 InGaN층과 GaN층이 교대로 적층된 막인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
5 5
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 CTEL의 두께는 1 ~ 50㎚인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
6 6
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 투명 전도 산화막은, ITO, IZO, ZnO와 AZO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
7 7
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 반사막은,Ag, AgPdCu, Al, Au, Cu, Ni와 Rh 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 둘 이상의 합금이 포함된 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
8 8
기판 상부에 N타입 반도체층, 활성층과 P타입 반도체층이 순차적으로 적층되어 있는 구조물을 포함하여 구비하여서 상기 활성층에서 광이 기판을 통과하여 방출되는 플립칩 본딩용 발광 다이오드에 있어서, 상기 P타입 반도체층 상부에 상기 P타입 반도체층의 물질을 포함하고 있으며, 캐리어 이동을 향상시켜 전류 흐름을 원활하게 하기 위해 상기 P타입 반도체층의 일함수보다 작고, 투명 전도 산화막의 일함수보다 큰 일함수를 갖는 CTEL(Current Transport Enhanced Layer)와; 상기 CTEL 상부에 형성된 투명 전도 산화막(Transparent Conduction Oxide, TCO)과; 상기 투명 전도 산화막 상부에 형성된 반사막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
9 9
삭제
10 10
제 8 항에 있어서, 상기 투명 전도 산화막은, ITO, IZO, ZnO와 AZO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
11 11
제 8 항에 있어서, 상기 반사막은,Ag, AgPdCu, Al, Au, Cu, Ni와 Rh 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 둘 이상의 합금이 포함된 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
12 11
제 8 항에 있어서, 상기 반사막은,Ag, AgPdCu, Al, Au, Cu, Ni와 Rh 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 둘 이상의 합금이 포함된 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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