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기판 상부에 N-GaN층, 활성층과 P-GaN층이 순차적으로 적층되어 있고; 상기 P-GaN층에서 N-GaN층의 일부까지 메사(Mesa) 식각되어 있고; 상기 P-GaN층 상부에 GaN을 포함하며, 캐리어 이동을 향상시켜 전류 흐름을 원활하게 하기 위해 상기 P-GaN층의 일함수보다 작고, 투명 전도 산화막의 일함수보다 큰 일함수를 갖는 CTEL(Current Transport Enhanced Layer)와; 상기 CTEL 상부에 형성된 투명 전도 산화막(Transparent Conduction Oxide, TCO)과; 상기 투명 전도 산화막 상부에 형성된 반사막을 포함하여 이루어진 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 투명 전도 산화막의 일함수는 4
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 CTEL은, InGaN층 또는 InGaN층과 GaN층이 교대로 적층된 막인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 CTEL의 두께는 1 ~ 50㎚인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 투명 전도 산화막은, ITO, IZO, ZnO와 AZO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 반사막은,Ag, AgPdCu, Al, Au, Cu, Ni와 Rh 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 둘 이상의 합금이 포함된 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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기판 상부에 N타입 반도체층, 활성층과 P타입 반도체층이 순차적으로 적층되어 있는 구조물을 포함하여 구비하여서 상기 활성층에서 광이 기판을 통과하여 방출되는 플립칩 본딩용 발광 다이오드에 있어서, 상기 P타입 반도체층 상부에 상기 P타입 반도체층의 물질을 포함하고 있으며, 캐리어 이동을 향상시켜 전류 흐름을 원활하게 하기 위해 상기 P타입 반도체층의 일함수보다 작고, 투명 전도 산화막의 일함수보다 큰 일함수를 갖는 CTEL(Current Transport Enhanced Layer)와; 상기 CTEL 상부에 형성된 투명 전도 산화막(Transparent Conduction Oxide, TCO)과; 상기 투명 전도 산화막 상부에 형성된 반사막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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삭제
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제 8 항에 있어서, 상기 투명 전도 산화막은, ITO, IZO, ZnO와 AZO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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제 8 항에 있어서, 상기 반사막은,Ag, AgPdCu, Al, Au, Cu, Ni와 Rh 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 둘 이상의 합금이 포함된 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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11
제 8 항에 있어서, 상기 반사막은,Ag, AgPdCu, Al, Au, Cu, Ni와 Rh 중 어느 하나 또는 이들 중 적어도 둘 이상의 합금이 포함된 것을 특징으로 하는 플립칩 본딩용 발광 다이오드
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