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액상 고분자 물질이 도포된 기판을 진공 챔버에 로딩하고 그 상부에 소프트 몰드를 셋팅하는 단계;
상기 진공 챔버를 대기압 상태에서 진공 상태로 만든 후에 상기 소프트 몰드와 상기 액상 고분자 물질을 콘택시키는 단계;
상기 소프트 몰드의 음각부에 상기 액상 고분자 물질이 채워지도록 하는 단계;
상기 소프트 몰드의 상부에서 UV를 조사하여 상기 액상 고분자 물질을 경화시켜서 미세 패턴 형성용 마스크층을 형성하는 단계;
상기 소프트 몰드와 상기 기판을 분리시키는 단계;
상기 마스크층을 이용하여 패턴 형성층을 식각하여 미세 패턴층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 소프트 몰드는 일면에 양각 또는 음각의 요철이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 소프트 몰드의 배면에 백 프레인용 기판이 부착되어 있는 것을 더 포함함을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 소프트 몰드는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS) 또는 폴리우레탄(polyurethane)이 주성분인 것을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 액상 고분자 물질은 솔벤트가 함유되어 있지 않은 아크릴계 또는 에폭시계 수지로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 액상 고분자 물질은 프리 폴리머가 80~98%이고, 포토 이니시에이터(photo initiator)가 1~10%이며, 기타 다른 첨가제가 1~10%정도인 것을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 6 항에 있어서,
상기 프리 몰리머는 HEA(Hydroxyethyl acrylate), GMA(Glycidyl methacrylate), EGDMA(diethyleneglycol dimethacrylate), THFA(Tetrahydrofurfuryl acrylate), HMAA(Hydroxymethul acrylamide), PEA(Phenyl epoxyacrylate), HOFHA(6-Hydroxy-2, 2,3,3,4,4,5,5-octafluoro), EOPT(Polyethoxylated(4) pentaerythritoltetraacrylate), HPA(Hydroxypropyl acrylate), BMA(Buthylmethacrlate), PETIA(Pentaerythritol triacrylate), HDDA(Hexan diol diacrylate), EGPEA(Ethyleneglycol phenyletheracrylate), BM(Benzylmethacrylate), HPPA(Hydroxyphenoxypropyl acrylate), TMSPMA(3-(Trimetoxysily) propylmethacrylate), BHPEA(2-(4-Benzoyl-3-hydroxyphenoxy) ethylacrylate), HEMA, HPMA, DGDMA중 적어도 어느 하나로 구성되어 있음을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 소프트 몰드와 상기 고분자 물질은, 상기 소프트 몰드의 표면이 소수성이면 상기 고분자 물질은 친수성이고, 상기 소프트 몰드 표면이 친수성이면 상기 고분자 물질은 소수성인 것 즉, 그 표면 성질이 상반된 특성을 갖는 것을 사용함을 특징으로 하는 소프트 몰드를 이용한 미세 패턴 형성방법
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