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멀티층 제조방법

  • 기술번호 : KST2015038208
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요약 본 발명의 멀티층 제조방법은, 기판 상에 제 1층을 마련하는 단계와; 제 1층을 표면처리하는 단계와; 기초용액에 파우더와 폴리머를 혼합하여 분산용액을 마련하는 단계와; 상기 분산용액을 상기 제 1층에 떨어트리는 단계와; 상기 표면처리된 기판에 자기조립된 상기 분산용액을 예비열처리하여 상기 기초용액을 증발시켜 예비패턴을 형성하는 단계와; 상기 예비패턴에 식각액을 사용하여 제 1층을 식각하는 단계와; 상기 예비패턴을 열처리하여 상기 폴리머를 증발시켜 파우더패턴을 형성하는 단계와; 상기 파우더패턴의 상기 파우더 간의 전기적 결합을 하는 파우더 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01)
CPC H01L 29/66757(2013.01) H01L 29/66757(2013.01)
출원번호/일자 1020050058342 (2005.06.30)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1106003-0000 (2012.01.06)
공개번호/일자 10-2007-0002706 (2007.01.05) 문서열기
공고번호/일자 (20120118) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.06.28)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 채기성 대한민국 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허용록 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 현죽빌딩)(선영특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2005-0355700-43
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2010-0416980-36
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0064342-14
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0478876-19
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0818402-21
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.10.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0818403-77
11 등록결정서
Decision to grant
2011.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0767961-93
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 제 1층을 마련하는 단계와; 제 1층을 표면처리하는 단계와; 기초용액에 파우더와 폴리머를 혼합하여 분산용액을 마련하는 단계와; 상기 분산용액을 상기 제 1층에 떨어트리는 단계와; 상기 표면처리된 기판에 자기조립된 상기 분산용액을 예비열처리하여 상기 기초용액을 증발시켜 예비패턴을 형성하는 단계와; 상기 예비패턴에 식각액을 사용하여 제 1층을 식각하는 단계와; 상기 예비패턴을 열처리하여 상기 폴리머를 증발시켜 파우더패턴을 형성하는 단계와; 상기 파우더패턴의 상기 파우더 간의 전기적 결합을 하는 파우더 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티층 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 제 1층은 유리, 실리콘 웨이퍼 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 멀티층 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 표면처리된 제 1층은 상기 분산용액에 대해 소수 및 친수의 성질을 갖는 친수영역과 소수영역으로 나누어지는 것을 특징으로 하는 자기조립 단분자막 제조방법
4 4
기판 상에 제 1박막층을 마련하는 단계와; 상기 제 1박막층을 절연하는 제1절연막을 마련하는 단계와; 상기 제1절연막에 반도체층을 형성하는 단계와; 상기 반도체층이 마련된 상기 기판 전면에 제 2박막층을 형성하는 단계와; 상기 제 2박막층을 표면처리하는 단계와; 상기 제 2박막층에 분산용액을 떨어트리는 단계와; 상기 표면처리된 제2박막층에 자기조립된 상기 분산용액을 열처리하고 식각액을 사용하여 제 2박막층을 식각하여 멀티박막층이 마련되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭소자 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 기초용액에 파우더와 폴리머를 혼합하여 분산용액을 마련하는 단계와; 상기 기초용액을 증발시켜 예비패턴을 형성하는 단계와; 상기 예비패턴에 식각액을 사용하여 제 2박막층을 식각하는 단계와; 상기 예비패턴을 열처리하여 상기 폴리머를 증발시켜 파우더패턴을 형성하는 단계와; 상기 패턴의 상기 파우더 간의 전기적 결합을 하는 파우더 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭소자 제조방법
6 6
제 4항에 있어서, 상기 표면처리된 기판은 상기 분산용액에 대해 소수 및 친수의 성질을 갖는 친수영역과 소수영역으로 나누어지는 것을 특징으로 하는 스위칭소자 제조방법
7 7
제 4항 내지 6항의 어느 한항에 있어서, 상기 표면처리된 제 2박막층은 상기 스위칭소자의 데이터배선이 형성되는 영역이 분산용액에 대해 친수의 성질 갖는 것을 특징으로 하는 스위칭소자 제조방법
8 8
제 4항 내지 6항의 어느 한항에 있어서, 상기 기판에 표면처리하여 상기 제 1박막층을 파우더패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 스위칭소자 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.