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원격 플라즈마 소오스와, 챔버와, 상기 챔버 내에 서로 대향된 상하부 전극과, 상기 상부 전극 하부에 위치하여 상기 상부 전극을 통과하는 플라즈마 가스를 확산하여 하측으로 뿌려주는 샤워 헤드 및 상기 하부 전극 상에 감광막 및 식각대상막이 차례로 적층된 기판을 포함하여 이루어진 플라즈마 애셔 장비의 플라즈마 애슁 방법에 있어서,
상기 원격 플라즈마 소오스의 플라즈마 가스 발생 동작과 동시에 상기 하부 전극에 양의 직류 전압 인가와 함께, 1mA 이하의 전류를 공급하며, 상기 하부 전극을 양대전하는 단계; 및
상기 하부 전극의 양대전에 의해 상기 샤워 헤드로부터 뿌려진 플라즈마 가스 중 양전하를 기판 상부 및 주변으로 밀어내며, 상기 플라즈마 가스 중 반응성 라디칼을 상기 기판 상의 감광막과 산화시켜 감광막을 제거하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 플라즈마 애슁 방법
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제 1항에 있어서,
상기 양의 직류 전압은 1~3kV인 것을 특징으로 하는 플라즈마 애슁 방법
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감광막 패턴 및 상기 감광막 패턴에 의해 식각이 완료된 식각 대상막이 차례로 적층된 기판을 준비하는 단계;
원격 플라즈마 소오스와, 챔버 및 상기 챔버 내에 서로 대향된 상하부 전극과, 상기 상부 전극을 통과하는 플라즈마 가스를 확산하여 하측으로 뿌려주는 샤워 헤드를 구비한 플라즈마 애셔 장비를 준비하는 단계;
상기 플라즈마 애셔 장비 내의 상기 하부 전극 상에 상기 기판을 장착하는 단계;
상기 원격 플라즈마 소오스의 플라즈마 가스 발생 동작과 동시에 상기 하부 전극에 양(+)전압을 인가하며, 1mA 이하의 전류를 공급하여 상기 하부 전극을 양대전하는 단계; 및
상기 하부 전극의 양대전에 의해, 상기 샤워 헤드로부터 뿌려지는 플라즈마 가스 중 양전하를 기판 상부 및 주변으로 밀어내며, 상기 플라즈마 가스 중 반응성 라디칼을 상기 기판 상의 감광막 패턴과 산화 반응시켜 상기 감광막 패턴을 제거하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법
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제 6항에 있어서,
상기 양전압은 직류 전압인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법
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제 7항에 있어서,
상기 직류 전압은 1~3kV인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법
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제 6항에 있어서,
상기 식각 대상막은 금속막, 무기 절연막, 수지막 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법
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