맞춤기술찾기

이전대상기술

습식 식각 장비 및 습식 식각 방법

  • 기술번호 : KST2015038329
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 에천트 및 DI의 유출량을 관리하여 유출량의 증가에 따른 사용 비용 증가 및 공정 불량 발생을 방지하도록 한 습식 식각 장비 및 습식 식각 방법에 관한 것으로서, 식각 공정이 진행되는 기판과, 상기 기판을 로딩 또는 언로딩하는 이송 로봇과, 상기 이송 로봇에 의해 로딩된 기판이 이송하는 이송트랙과, 상기 이송트랙을 통해 이송된 기판에 식각액을 분사하여 식각하는 식각실과, 상기 식각실에서 식각이 완료된 기판을 이송 받아 세정액을 분사하여 세정하는 세정실과, 상기 세정실에서 세정이 완료된 기판을 이송 받아 건조하는 건조실과, 상기 식각실과 세정실 사이에 구성되어 식각 공정이 완료된 기판 상부의 식각액 잔류량 또는 세정액의 잔류량을 검출하는 검출수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. 액정표시장치, 습식 식각, 광 센서, 농도 측정기
Int. CL H01L 21/304 (2006.01)
CPC H01L 21/6708(2013.01) H01L 21/6708(2013.01) H01L 21/6708(2013.01) H01L 21/6708(2013.01) H01L 21/6708(2013.01) H01L 21/6708(2013.01)
출원번호/일자 1020050057576 (2005.06.30)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1096704-0000 (2011.12.14)
공개번호/일자 10-2007-0002186 (2007.01.05) 문서열기
공고번호/일자 (20111222) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.06.23)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박창서 대한민국 경북 칠곡군

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 심창섭 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 **, 현대빌딩 *층 (잠실동)(KBK특허법률사무소)
2 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2005-0352753-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0403027-56
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.06.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.07.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0060542-45
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0417520-18
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0751329-92
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0751330-38
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
11 등록결정서
Decision to grant
2011.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0606953-41
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
식각 공정이 진행되는 기판과, 상기 기판을 로딩 또는 언로딩하는 이송 로봇과, 상기 이송 로봇에 의해 로딩된 기판이 이송하는 이송트랙과, 상기 이송트랙을 통해 이송된 기판에 식각액을 분사하여 식각하는 식각실과, 상기 식각실에서 식각이 완료된 기판을 이송 받아 세정액을 분사하여 세정하는 세정실과, 상기 세정실에서 세정이 완료된 기판을 이송 받아 건조하는 건조실과, 상기 식각실과 세정실 사이에 구성되어 식각 공정이 완료된 기판 상부의 식각액 잔류량 또는 세정액의 잔류량을 검출하는 검출수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 습식 식각 장비
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 검출수단은 광 센서로 이루어짐을 특징으로 하는 습식 식각 장비
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 광 센서는 수광부와 발광부로 이루어짐을 특징으로 하는 습식 식각 장비
4 4
식각 공정이 진행되는 기판과, 상기 기판을 로딩 또는 언로딩하는 이송 로봇과, 상기 이송 로봇에 의해 로딩된 기판이 이송하는 이송트랙과, 상기 이송트랙을 통해 이송된 기판에 다수개의 노즐 샤워를 통해 식각액을 분사하여 식각하는 식각실과, 상기 식각실에서 식각이 완료된 기판을 이송 받아 세정액을 분사하여 세정하는 세정실과, 상기 세정실에서 세정이 완료된 기판을 이송 받아 건조하는 건조실과, 상기 다수의 노즐 샤워에 더미 노즐 샤워를 추가로 구성하고, 상기 더미 노즐 샤워를 통해 분사되는 식각액과 상기 기판에 분사된 식각액을 수집하여 농도를 비교하는 농도 측정기를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 습식 식각 장비
5 5
삭제
6 6
금속이 증착된 기판을 식각실로 로딩하는 단계; 상기 로딩된 기판에 식각액을 분사하여 금속을 선택적으로 식각하는 단계; 상기 식각 공정이 완료된 기판을 세정실로 이동하여 상기 기판에 세정액을 분사하여 세정하는 단계; 상기 식각실과 세정실 사이에 구성된 검출 수단을 이용하여 상기 식각실에서 유출되는 기판상에 잔류하는 식각액의 잔류량 또는 상기 세정실에서 유출되는 세정액의 잔류량을 검출하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 습식 식각 방법
7 7
금속이 증착된 기판을 식각실로 로딩하는 단계; 상기 로딩된 기판에 다수개의 노즐 샤워를 통해 식각액을 분사하여 금속을 선택적으로 식각하는 단계; 상기 식각 공정이 완료된 기판을 세정실로 이동하여 상기 기판에 세정액을 분사하여 세정하는 단계; 상기 다수의 노즐 샤워에 추가로 구성된 더미 노즐 샤워를 통해 분사되는 식각액과 상기 기판에 분사된 식각액을 수집하여 농도를 비교하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 습식 식각 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.