맞춤기술찾기

이전대상기술

드라이 에칭 장비

  • 기술번호 : KST2015038394
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 드라이 에칭 장비에 관한 것으로 특히 기판의 중심부가 과도하게 식각되는 것을 방지하기 위한 것이다.본 발명에 따른 드라이 에칭 장비는 챔버와; 상기 챔버의 상부에서 에칭가스를 주입하기 위한 주입구와; 상기 챔버의 상층에서 상기 주입구를 통한 상기 에칭가스가 통과하는 홀이 형성된 도전성의 필터망과; 상기 필터망상에서 상기 주입구의 아래의 위치에 형성되어 상기 에칭가스를 이동을 지연시키는 보조필터망과; 기판이 놓여지는 도전성의 기판서셉터와; 상기 필터망과 접속된 고주파 전원부를 구비한다.
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01)
CPC H01L 21/67069(2013.01)
출원번호/일자 1020050058577 (2005.06.30)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1108775-0000 (2012.01.16)
공개번호/일자 10-2007-0002879 (2007.01.05) 문서열기
공고번호/일자 (20120224) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.06.28)
심사청구항수 5

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박상혁 대한민국 부산 부산진구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 허용록 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 현죽빌딩)(선영특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2005-0356262-14
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0608934-56
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2010-0417010-53
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.03.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0032489-11
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0422209-30
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0759591-13
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0759594-50
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
12 등록결정서
Decision to grant
2011.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0700480-30
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
챔버와;상기 챔버의 상부에서 에칭가스를 주입하기 위한 주입구와;상기 챔버의 상층에서 상기 주입구를 통한 상기 에칭가스가 통과하는 홀이 형성된 도전성의 필터망과;상기 필터망상에서 상기 주입구의 아래의 위치에 형성되어 상기 에칭가스를 이동을 지연시키는 보조필터망과;기판이 놓여지는 도전성의 기판서셉터와;상기 필터망과 접속된 고주파 전원부를 구비하는 것을 특징으로 하는 드라이 에칭 장비
2 2
제 1 항에 있어서,상기 보조 필터망은 원뿔형인 것을 특징으로 하는 드라이 에칭장비
3 3
제 1 항에 있어서,상기 보조 필터망은 다각뿔형인 것을 특징으로 하는 드라이 에칭장비
4 4
제 1 항에 있어서,상기 챔버의 하단부에 형성된 홀과;상기 홀과 연결된 진공펌프를 더 구비하여 에칭 공정시 발생하는 불순물을 상기 홀을 통하여 배출하는 것을 특징으로 하는 드라이 에칭장비
5 5
사각 기둥 형상의 챔버와;상기 챔버의 상부에서 에칭가스를 주입하기 위한 주입구와;상기 주입구의 아래에 위치하는 곳에서는 작은 크기의 홀이 형성되고 가장자리로 갈수록 큰 크기의 홀이 형성되어, 상기 주입구를 통한 에칭가스를 통과시키는 도전성의 필터망과;기판이 놓여지는 도전성의 기판서셉터와;상기 필터망과 접속된 고주파 전원부와;상기 챔버의 하단부에 형성된 홀과;상기 홀과 연결된 진공펌프를 구비하고,상기 진공펌프를 이용하여 에칭 공정시 발생하는 불순물을 상기 홀을 통하여 배출하는 것을 특징으로 하는 드라이 에칭 장비
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.