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3-플루오로-1,3-프로판설톤의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015039032
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 1,3-프로판설톤에 대한 염소화 반응과, 상기 반응을 통해 얻어진 염소-치환 1,3-프로판설톤에 불소 치환반응을 행하는 과정을 포함하는 것으로 구성된, 하기 화학식의 3-플루오로-1,3-프로판설톤의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 제조방법은 반응장치 및 공정이 매우 간단할 뿐 아니라, 치환위치에 대한 높은 선택성 및 높은 수율을 가지며, 고순도의 3-플루오로-1,3-프로판설톤을 얻을 수 있는 장점이 있다.
Int. CL C07D 327/04 (2006.01.01) C07B 39/00 (2006.01.01) A61K 31/39 (2006.01.01) H01M 10/0569 (2010.01.01) H01M 10/0525 (2010.01.01)
CPC C07D 327/04(2013.01) C07D 327/04(2013.01) C07D 327/04(2013.01) C07D 327/04(2013.01) C07D 327/04(2013.01)
출원번호/일자 1020050077044 (2005.08.23)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-0908570-0000 (2009.07.14)
공개번호/일자 10-2007-0022968 (2007.02.28) 문서열기
공고번호/일자 (20090722) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.27)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정현민 대한민국 대전광역시 유성구
2 안정애 대한민국 경기도 고양시 일산구
3 이철행 대한민국 대전광역시 대덕구
4 임영민 대한민국 인천광역시 부평구
5 박진현 대한민국 서울특별시 양천구
6 하용준 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손창규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** *동 ****호(역삼동, 성지하이츠*차빌딩)(글로벌혜성특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2005-0462346-60
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.08.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-0019818-11
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2007.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2007-0849875-91
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.05.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0032656-57
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.04.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0150114-96
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2009-0319696-52
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.05.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0319750-20
9 등록결정서
Decision to grant
2009.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0278049-83
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
12 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2018.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0585869-82
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
16 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2020.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2020-1090786-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1,3-프로판설톤에 대한 염소화 반응과, 상기 반응을 통해 얻어진 염소-치환 1,3-프로판설톤에 불소 치환반응을 행하는 과정을 포함하는 것으로 구성된, 하기 화학식 1의 3-플루오로-1,3-프로판설톤의 제조방법: (1)
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 염소화 반응은 염소화 시약으로서 염소가스, 설푸릴 클로라이드(sulfuryl chloride: SO2Cl2) 또는 티오닐 클로라이드(thionyl chloride)과, 라디칼 개시제에 의해 행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 염소화 반응은 SO2Cl2와 라디칼 개시제에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 불소 치환반응은 불소화 시약으로서 N(R)4F·(HF)n (R=지방족 탄화수소 또는 H, n = 1 ~ 5)에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는 제조방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 불소화 시약으로서 NH4HF2를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 불소 치환반응은 카보네이트 화합물, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran) 또는 아세토니트릴(acetonitrile)의 용매에서 행해지는 것을 특징으로 하는 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 카보네이트 화합물은 디메틸 카보네이트 인 것을 특징으로 하는 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 불소 치환 반응물을 에틸렌 아세테이트에서 재결정하여 3-플루오로-1,3-프로판설톤을 99
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.