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우수한 물성의 전지 분리막용 필름의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015039299
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 고분자 기재 및 기공형성제의 압출, 시트의 연신 등을 행하여 분리막용 필름을 제조할 때, 압출 과정에서 혼합물 유체의 스트림을 비후방-혼합 방식에 의해 연속적으로 분할 및 재혼합함으로써, 유체의 온도 구배를 줄이고 기공형성제의 분산도를 균일하게 만들어, 최종적으로 제조된 필름에서 고분자 기재의 몰포로지와 기공의 균일성을 높일 수 있는 분리막용 필름의 제조방법과, 그렇게 제조된 우수한 물성의 분리막, 및 이를 사용한 이차전지를 제공한다.
Int. CL H01M 2/14 (2006.01.01) H01M 2/16 (2006.01.01) B29C 55/02 (2006.01.01) C08J 5/22 (2006.01.01)
CPC H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01)
출원번호/일자 1020050082949 (2005.09.06)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-0948005-0000 (2010.03.10)
공개번호/일자 10-2007-0027418 (2007.03.09) 문서열기
공고번호/일자 (20100318) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.27)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조용균 대한민국 대전광역시 유성구
2 김준희 대한민국 대전광역시 유성구
3 송문섭 대한민국 전라북도 익산시
4 이민희 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손창규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** *동 ****호(역삼동, 성지하이츠*차빌딩)(글로벌혜성특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.09.06 수리 (Accepted) 1-1-2005-0498956-88
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.08.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-0019818-11
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2007.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2007-0849871-19
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.09.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0061685-40
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.09.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0390845-15
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.11.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0707416-31
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.11.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-0707397-51
9 등록결정서
Decision to grant
2010.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0078256-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 액상의 고분자 기재에 기공형성제를 혼합하는 단계; (b) 상기 혼합물 유체의 스트림을 비후방-혼합 방식에 의해 연속적으로 분할 및 재혼합하면서 시트 형상으로 압출하는 단계; (c) 상기 압출된 시트를 연신하여 필름 형상으로 제조하는 단계; 및 (d) 상기 필름에서 기공형성제를 제거하고 열-세팅하는 단계; 를 포함하는 것으로 구성되어 있는 전지 분리막용 필름의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 고분자는 폴리에틸렌인 것을 특징으로 하는 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 고분자는 초고분자량의 폴리에틸렌(High Molecular Weight Polyethylene: HMWPE)을 포함하는 것을 특징으로 하는 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 기공형성제는 액체 파라핀인 것을 특징으로 하는 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 단계(a)에서의 혼합은 트윈 스크루우 압출기(Twin Screw Extruder)에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 단계(b)에서의 비후방-혼합은 스태틱 믹싱 요소에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 비후방-혼합은 스태틱 믹싱 요소를 포함하고 있는 스태틱 믹서에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 스태틱 믹서는 Sulzer SMV-type 스태틱 믹서, Kenics KM-type 스태틱 믹서, KAM 스태틱 믹서, Komax 스태틱 믹서, Kenics HEV-type 믹서, Sulzer SMX-type 스태틱 믹서, Multiflux 스태틱 믹서, 또는 Ross ISG-type 스태틱 믹서인 것을 특징으로 하는 제조방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 단계(b)는 기어 펌프 또는 싱글 스크루우 압출기에 의해 압출 구동력이 제공되는 스태틱 믹서에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 단계(d)에서 용매를 사용하여 기공형성제를 제거하는 것을 특징으로 하는 제조방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 추출용매는 메틸렌 클로라이드인 것을 특징으로 하는 제조방법
12 12
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13 13
삭제
14 14
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.